[发明专利]粘接剂组合物、粘接片及半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310084306.5 申请日: 2013-03-15
公开(公告)号: CN103305159B 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 土山佐也香;市川功 申请(专利权)人: 琳得科股份有限公司
主分类号: C09J133/00 分类号: C09J133/00;C09J163/04;C09J11/04;C09J7/00;H01L21/683;H01L21/60
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 刘春生;于宝庆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种粘接剂组合物,能够于粘接剂层中将填料均匀的混合,即使在多段封装的制造时对粘接剂层采用一次全部硬化工艺的情形,能够在硬化前稳定的进行打线,硬化后显示优良的粘接强度,特别是于半导体装置达成高封装信赖性。本发明的粘接剂组合物,其特征在于包含丙烯酸聚合物(A)、具有不饱和烃基的热硬化性树脂(B)以及于表面具有反应性双键的填料(C)。
搜索关键词: 粘接剂组合物 半导体装置 粘接剂层 封装 硬化 丙烯酸聚合物 热硬化性树脂 不饱和烃基 反应性双键 硬化工艺 信赖性 粘接片 打线 多段 粘接 制造
【主权项】:
1.一种粘接剂组合物,包含丙烯酸聚合物(A)、具有不饱和烃基的热硬化性树脂(B)以及于表面具有反应性双键的填料(C),其中相对于前述丙烯酸聚合物(A)100质量份,前述填料(C)的含有量为35~100质量份。
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