[实用新型]半导体结构有效
申请号: | 201220380055.6 | 申请日: | 2012-08-01 |
公开(公告)号: | CN202736907U | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 郭志明;何荣华;张世杰;黄家晔;谢庆堂 | 申请(专利权)人: | 颀邦科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L23/13 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型是有关于一种半导体结构,其包含有载体以及多个混成凸块,该载体具有表面及多个凸块下金属层,上述混成凸块形成于上述凸块下金属层上,各该混成凸块具有芯部及接合部,该芯部具有顶面,该接合部包含有第一接合层及第二接合层,该第一接合层形成于该芯部的该顶面及该凸块下金属层,其中该第一接合层具有基底部、凸出部及容置空间,该基底部具有上表面,该凸出部凸出于该上表面,且该凸出部位于该芯部上方,该容置空间位于该凸出部外侧,该第二接合层覆盖该凸出部及该上表面且填充于该容置空间。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体结构,其特征在于其至少包含:载体,其具有表面及多个形成于该表面的凸块下金属层;以及多个混成凸块,其形成于上述凸块下金属层上,各该混成凸块具有芯部及接合部,该芯部具有顶面,该接合部包含有第一接合层及第二接合层,该第一接合层形成于该芯部的该顶面及该凸块下金属层,其中该第一接合层具有基底部、凸出部及容置空间,该基底部具有上表面,该凸出部凸出于该上表面,且该凸出部位于该芯部上方,该容置空间位于该凸出部外侧,该第二接合层覆盖该凸出部及该上表面且填充于该容置空间,各该基底部具有第一高度,各该第二接合层具有第二高度。
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