[发明专利]一种柔性衬底纳米金刚石薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210489917.3 申请日: 2012-11-27
公开(公告)号: CN102965666A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 史新伟;李杏瑞;王晓霞;姚宁;张兵林;周秋霞;靳慧智 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C14/35;C23C14/16;C23C16/44;C23C16/27;C23C16/56
代理公司: 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 代理人: 樊羿
地址: 450001 河南省郑*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一种柔性衬底纳米金刚石薄膜及其制备方法。包括金属柔性衬底层、Ni过渡层、金刚石薄膜层和纳米金刚石薄膜层。本发明采用Ni做过渡层,使用MPCVD法制备金刚石薄膜和纳米金刚石薄膜,提高了附着力,并通过调整以下关键工艺步骤进一步提高了膜基附着力:①对Ni过渡层进行氢处理,增强过渡层Ni与衬底的结合力及刻蚀掉多余的Ni;②高甲烷浓度下沉积金刚石薄膜,提高随后纳米金刚石薄膜的形核率;③低甲烷浓度并通入Ar气条件下沉积纳米金刚石薄膜;④保温及退火过程。本发明产品表面粗糙度小,表面光滑平,可替代抛光粉,有效改善现有抛光工艺的不足,拓展了应用范围,其制备方法简便、易实现,具有较强的可操控性及通用性。
搜索关键词: 一种 柔性 衬底 纳米 金刚石 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种柔性衬底纳米金刚石薄膜,包括柔性金属衬底层、过渡层、研磨层,其特征在于,所述过渡层是在所述柔性金属衬底层的抛光面上溅射沉积而形成的Ni金属过渡层;所述研磨层包括微米金刚石薄膜层和纳米金刚石薄膜层,所述微米金刚石薄膜层是利用微波等离子体增强化学气相沉积法于3~4sccm的高甲烷浓度下在所述Ni金属过渡层上沉积而成,所述纳米金刚石薄膜层是利用微波等离子体增强化学气相沉积方法于1.5~1.8sccm的低甲烷浓度下并通H2和Ar的条件下在所述金刚石薄膜层上沉积而成。
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