[发明专利]支撑件、光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 201210482715.6 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN103135361A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | N·J·吉利森;M·A·W·库杰帕斯;门诺·费恩;A·J·C·斯吉本;M·F·P·斯米茨 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明公开了一种支撑件、光刻设备和器件制造方法。用于物体的支撑件具有配置成支撑所述物体的支撑表面;其中,所述支撑表面包括主要部分和可移动部分,所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动,在缩回位置处,支撑表面的可移动部分适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中,在延伸位置处,支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。 | ||
搜索关键词: | 支撑 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于物体的支撑件,包括:支撑表面,配置成支撑所述物体;其中,所述支撑表面包括主要部分和可移动部分,所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动,在缩回位置处,支撑表面的可移动部分适配成基本上与支撑表面的主要部分处于相同的平面中,在延伸位置处,支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
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