[发明专利]一种去除光刻胶残留物的清洗液有效
| 申请号： | 201210450907.9 | 申请日： | 2012-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN103809392B | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;孙广胜;颜金荔;徐海玉 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于去除光刻胶残留物的清洗液及其组成。该种去除光刻胶残留物的清洗液含有环丁砜，二甘醇胺以及辅助溶剂。该种去除光刻胶残留物的清洗液不含有水、羟胺和氟化物，可以在较高的操作温度下清洗难以去除的晶圆上的光刻胶残留物同时，对于基材如金属铝、银、钛、钨和非金属二氧化硅、氮化镓等基本无腐蚀，在半导体及LED晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 光刻 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
一种去除光刻胶残留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液包括环丁砜以及二甘醇胺。
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