[发明专利]半导体分布反馈激光器无效
申请号: | 201210442009.9 | 申请日: | 2012-11-07 |
公开(公告)号: | CN103812002A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 耿振民 | 申请(专利权)人: | 无锡华御信息技术有限公司 |
主分类号: | H01S5/34 | 分类号: | H01S5/34;H01S5/343;H01S5/125 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 温子云 |
地址: | 214081 江苏省无锡市滨*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种半导体分布反馈激光器,包括:有源层、波导层、上包层、下包层,所述有源区具有应变量子阱和应变量子垒交替混合的结构,所述波导层内具有分布反馈激光器腔折射率光栅;其特征在于:所述有源区、波导层、上包层和下包层优选采用热膨胀系数相同或相近的材料制成,所述有源区的压缩应变量子阱的应变值为0.2~1.0%,拉伸应变量子垒的应变值为0.2~1.0%。 | ||
搜索关键词: | 半导体 分布 反馈 激光器 | ||
【主权项】:
一种半导体分布反馈激光器,包括:有源层、波导层、上包层、下包层,所述有源区具有应变量子阱和应变量子垒交替混合的结构,所述波导层内具有分布反馈激光器腔折射率光栅;其特征在于:所述有源区、波导层、上包层和下包层优选采用热膨胀系数相同或相近的材料制成,所述有源区的压缩应变量子阱的应变值为0.2~1.0%,拉伸应变量子垒的应变值为0.2~1.0%。
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