[发明专利]制作倒装高电压交直流发光二极管的方法无效

专利信息
申请号: 201210405495.7 申请日: 2012-10-22
公开(公告)号: CN102903805A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 田婷;詹腾;张逸韵;郭金霞;李璟;伊晓燕;刘志强;王国宏 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/62;H01L27/15
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种制作倒装高电压交直流发光二极管的方法,包括如下步骤:步骤1:在一上衬底上依次生长成核层、N型掺杂层、发光层和P型掺杂层;步骤2:在P型掺杂层的表面向下刻蚀,刻蚀深度到达上衬底的表面,形成相互绝缘的发光单元;步骤3:在P型掺杂层的表面向下刻蚀,刻蚀深度到达N型掺杂层内,形成台面;步骤4:在每一P型掺杂层上制作P电极;步骤5:在N型掺杂层的台面上制备N电极,形成LED芯片;步骤6:在一下衬底上生长一层绝缘层;步骤7:在绝缘层上制作金属层,形成倒装基板;步骤8:将LED芯片通过共晶键合的方法倒装在倒装基板上,所述LED芯片上的每一发光单元中的P电极与相邻发光单元中的N电极或P电极通过金属层电连接,完成制备。
搜索关键词: 制作 倒装 电压 直流 发光二极管 方法
【主权项】:
一种制作倒装高电压交直流发光二极管的方法,包括如下步骤:步骤1:在一上衬底上依次生长成核层、N型掺杂层、发光层和P型掺杂层;步骤2:在P型掺杂层的表面向下刻蚀,刻蚀深度到达上衬底的表面,形成相互绝缘的发光单元;步骤3:在P型掺杂层的表面向下刻蚀,刻蚀深度到达N型掺杂层内,形成台面;步骤4:在每一P型掺杂层上制作P电极;步骤5:在N型掺杂层的台面上制备N电极,形成LED芯片;步骤6:在一下衬底上生长一层绝缘层;步骤7:在绝缘层上制作金属层,形成倒装基板;步骤8:将LED芯片通过共晶键合的方法倒装在倒装基板上,所述LED芯片上的每一发光单元中的P电极与相邻发光单元中的N电极或P电极通过金属层电连接,完成制备。
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