[发明专利]形成有机发光结构的方法和制造有机发光显示设备的方法在审
申请号: | 201210374332.7 | 申请日: | 2012-09-27 |
公开(公告)号: | CN103094491A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 李东远;辛慧媛 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L21/77 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 罗正云;宋志强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种形成有机发光结构的方法和制造有机发光显示设备的方法。在该形成有机发光结构的方法中,在下部基板上形成彼此间隔开的多个第一电极。在下部基板上形成覆盖第一电极的第一有机层。在第一有机层上形成初始像素限定层。初始像素限定层包括光敏材料,并且选择性地被曝光,使得所述初始像素限定层和所述第一有机层的位于所述初始像素限定层下方的一部分分别被转换成像素限定层和第一有机层图案。在由像素限定层暴露的第一有机层上形成发射层。在发射层上形成第二有机层。在第二有机层上形成第二电极。 | ||
搜索关键词: | 形成 有机 发光 结构 方法 制造 显示 设备 | ||
【主权项】:
一种形成有机发光结构的方法,包括下列步骤:在下部基板上形成彼此间隔开的多个第一电极;在所述下部基板上形成覆盖所述多个第一电极的第一有机层;在所述第一有机层上形成初始像素限定层,所述初始像素限定层包括光敏材料;选择性地使所述初始像素限定层曝光,使得所述初始像素限定层、和所述第一有机层的位于所述初始像素限定层下方的一部分分别被转换成像素限定层和第一有机层图案;在由所述像素限定层暴露的所述第一有机层上形成发射层;在所述发射层上形成第二有机层;以及在所述第二有机层上形成第二电极。
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