[发明专利]用于半导体晶片的抛光药液组合物、抛光药液及制备方法无效
| 申请号： | 201210333650.9 | 申请日： | 2012-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102898951A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 刘建志;吴怀东;刘文森;赵波;刘征 | 申请（专利权）人： | 北京通美晶体技术有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王朋飞;张庆敏 |
| 地址： | 101113 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于半导体晶片抛光药液的组合物，包括次氯酸锂、碳酸氢盐和硅溶胶。本发明还涉及了一种包括所述组合物的抛光药液以及制备方法。本发明提供的抛光药液可以针对（111）特殊角度的半导体晶片，以达到光滑均匀，没有腐蚀坑、孔洞等缺陷的优异晶片表面。本发明提供的抛光药液可作为通用性抛光药液，而且原料价廉易得、降低了药液成本，具有广阔的市场应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 晶片 抛光 药液 组合 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于半导体晶片抛光药液的组合物，其特征在于，按照重量份包括以下组分：次氯酸锂： 5～40份；碳酸氢盐： 1～20份；硅溶胶： 50～90份。
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