[发明专利]非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备有效
| 申请号： | 201210161364.9 | 申请日： | 2012-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102677011A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 文晓斌;栾亚 | 申请（专利权）人： | 文晓斌 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/52 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 郭防 |
| 地址： | 518104 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备，包括真空腔（1）和控制柜（3），真空腔（1）下方设有真空控制柜（2），控制柜（3）上设有手动操作界面（4）和全自动操作界面（5），真空腔（1）上设有侧开式炉门（18），真空控制柜（2）后方设有氩气瓶（8）和氮气瓶（9），真空控制柜（2）后面设有气体压力表（10），还内设有气体流量反馈系统（16）与气体压力表（10）相连。本发明设有气体流量反馈系统，通过辉光放电的光谱信号来确定反应气体浓度，分析、判断出气体流量速率的调整范围，精确的对气体流量控制器进行调整，使通入气体压力保持最佳状态，保证薄膜的致密度和附着性。 | ||
| 搜索关键词： | 平衡 闭合 磁控溅射 离子镀 设备 | ||
【主权项】：
一种非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备，包括真空腔（1）和控制柜（3），其特征在于：真空腔（1）下方设有真空控制柜（2），控制柜（3）上设有手动操作界面（4）和全自动操作界面（5），真空腔（1）上设有侧开式炉门（23），真空控制柜（2）后方设有氩气瓶（8）和氮气瓶（9），真空控制柜（2）后面设有气体压力表（10），还内设有气体流量反馈系统（16）与气体压力表（10）相连。
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