[发明专利]一种基于MEMS加工工艺的柱面电容传感器无效
申请号: | 201210081249.0 | 申请日: | 2012-03-26 |
公开(公告)号: | CN102607394A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 王文;文耀华;卢科青;相奎;陈子辰 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01B7/02 | 分类号: | G01B7/02;G01B7/312;B81C1/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林怀禹 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于MEMS加工工艺的柱面电容传感器。由主轴旋转电极和同轴安装在主轴旋转电极外的柱面固定电极构成;其中:主轴旋转电极:是在主轴外圆柱面向外依次包覆有第一绝缘层、主轴铜电极和第二绝缘层;柱面固定电极:是在电极基座内圆柱孔向内依次包覆有第三绝缘层、等电位保护环、第四绝缘层和四个等距嵌在第四绝缘层内圈的四个弧形电极。本发明采用MEMS加工工艺,能将电极加工得很薄,不仅可以克服主要常规方法制造柱面电容传感器时存在的复杂加工、装配工艺,缩小传感器的体积,而且还能抑制传感器的边缘效应,适合于高精度主轴回转误差监测。该工艺易于实现柱面电容传感器的小型化制作,同时易于实现传感器的批量化制作。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 mems 加工 工艺 柱面 电容 传感器 | ||
【主权项】:
一种基于MEMS加工工艺的柱面电容传感器,由主轴旋转电极和同轴安装在主轴旋转电极外的柱面固定电极构成;其特征在于:主轴旋转电极(1):是在主轴(3)外圆柱面向外依次包覆有第一绝缘层(4)、主轴铜电极(5)和第二绝缘层(6);柱面固定电极(2):是在电极基座(7)内圆柱孔向内依次包覆有第三绝缘层(8)、等电位保护环(9)、第四绝缘层(10)和四个等距嵌在第四绝缘层(10)内圈的四个弧形电极(11);四个弧形电极(11)的轴向长度相等,圆心角均为60°。
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