[发明专利]半导体发光装置的晶片和用于制造半导体发光装置的方法无效

专利信息
申请号: 201210070860.3 申请日: 2012-03-16
公开(公告)号: CN102683558A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 中具道 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L33/50 分类号: H01L33/50;H01L25/075;H01L33/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种半导体发光装置的晶片和用于制造半导体发光装置的方法。根据一个实施例,一种半导体发光装置的晶片包括多个半导体发光装置并且包括发光单元和波长转换单元,所述多个半导体发光装置共同形成。所述发光单元具有第一主表面和在与所述第一主表面的相对侧上的第二主表面。所述波长转换单元设置在第一主表面侧上。所述波长转换单元包含荧光剂。所述波长转换单元的厚度根据从所述多个半导体发光装置的所述发光单元发射的光的波长和强度中选择的至少一种在所述晶片的表面上的分布而改变。
搜索关键词: 半导体 发光 装置 晶片 用于 制造 方法
【主权项】:
一种半导体发光装置的晶片,所述晶片包括多个半导体发光装置,所述多个半导体发光装置共同形成,所述晶片包括:发光单元,所述发光单元具有第一主表面和在与所述第一主表面的相对侧上的第二主表面;以及波长转换单元,所述波长转换单元设置在第一主表面侧上,所述波长转换单元包含荧光剂,所述波长转换单元的厚度根据从所述多个半导体发光装置的所述发光单元发射的光的波长和强度中选择的至少一种在所述晶片的表面上的分布而改变。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210070860.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top