[发明专利]光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物

摘要

本发明提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物。在制造光致抗蚀剂时，所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好，且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物用于溶解肟酯类光聚合引发剂，其包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少一种化合物。下述式(A)中，R¹～R⁴相同或不同，分别为C_1‑2的烷基，R¹和R³、或R²和R⁴任选相互键合而分别形成环。

主权项

1.一种溶剂或溶剂组合物的作为光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物的用途，所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物包含肟酯类光聚合引发剂，该肟酯类光聚合引发剂为选自下述式(1)所示的化合物(1)、下述式(2)所示的化合物(2)及下述式(3)所示的化合物(3)中的至少一种：所述溶剂或溶剂组合物包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少一种化合物，上述式(A)中，R¹～R⁴相同或不同，分别为C_1‑2的烷基，R¹和R³、或R²和R⁴相互键合而形成2‑嘧啶酮环。