[发明专利]选择性金属化基底的方法以及根据该方法制备的电路板在审
申请号: | 201210009740.2 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN102586764A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | W·约翰;B·罗森尔 | 申请(专利权)人: | LPKF激光和电子股份公司 |
主分类号: | C23C18/22 | 分类号: | C23C18/22;C23C18/30;C23C18/38;H05K3/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 柳冀 |
地址: | 德国加*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及选择性金属化塑料基底表面的方法以及根据该方法制造的电路板,其中塑料基底含有作为添加剂的天然或合成制造的架状铝硅酸盐,借助塑料基底表面的烧蚀处理使之可接触到、进行引晶和最后无外电流地金属化。 | ||
搜索关键词: | 选择性 金属化 基底 方法 以及 根据 制备 电路板 | ||
【主权项】:
选择性金属化具有由容纳或承载添加剂的塑料组成的主要材料成分的基底的方法,其中在待金属化区域内借助烧蚀法蚀刻基底近表面层,其特征在于,塑料含有作为添加剂的至少一种选自包含铝硅酸盐,尤其是架状铝硅酸盐的物质组的化合物;和通过烧蚀法在塑料表面的待金属化区域内实现对塑料中所纳入的铝硅酸盐的可接触性和铝硅酸盐的孔或孔结构的开放,以便实现贵金属,尤其是钯的嵌入;并最后进行无外电流的金属化,其中起初在孔或孔结构内部的金属也沉积在孔的外边缘区域,从而在基底的表面上形成平面金属化层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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