[发明专利]管内镀膜设备及镀膜技术无效
| 申请号： | 201210003526.6 | 申请日： | 2012-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN102517555A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 李德杰 | 申请（专利权）人： | 李德杰 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 管内镀膜设备及镀膜技术，属于特殊薄膜制备技术领域。采用磁控溅射镀膜技术，以被镀管的管壁为真空腔的侧壁，两端进行真空密封，并设置排气口和充气管道。放电阴极为圆柱状，与被镀管同轴设置，其内部水冷，但不在其中设置磁体，阴极外表面设置圆柱靶材，与阴极紧配合，或者阴极外表面直接作为靶材。磁体设置在被镀管的外部，即处于大气中。本发明所涉及的设备简单，成本低，适合各类内径大于50mm的管内镀膜，可大规模推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 技术 | ||
【主权项】：
管内镀膜设备及镀膜技术，其特征在于：采用磁控溅射镀膜技术，以被镀管的管壁为真空腔的侧壁，两端进行真空密封，并设置排气口和充气管道；放电阴极为圆柱状，与被镀管同轴设置，其内部水冷，但不在其中设置磁体，阴极外表面设置圆柱靶材，与阴极紧配合，或者阴极外表面直接作为靶材；磁体设置在被镀管的外部，即处于大气中。
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