[发明专利]一种离子源均匀送气结构装置

摘要

本发明公开了离子注入系统中的一种离子源均匀送气结构装置，如图1所示：通过在送气盖板底部设计送气管路(501)至送气管路(507)，以使送入的气体均匀的流入弧室腔体内，而弧室的两块端板上安装有灯丝；当通过一定的灯丝电流，灯丝受热发射电子，此时送入的气体与电子相互碰撞发生电离，最终形成均匀的等离子体。因此，送气盖板的设置对均匀性送气显得尤为重要。其中送气盖板(5)采用耐高温、耐高压、高强度、导电特性突出的钼质材料，以减少在气体流动过程中造成的对送气盖板(5)的侵蚀。本发明涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。

主权项

一种应用于离子注入系统的离子源均匀送气结构装置，其送气盖板(5)及底板(4)均采用耐高温、耐高压、高强度、导电特性突出的钼质材料，而与之相连的送气管头部(6)采用陶瓷质地，以减少在气体流动过程中由于气体的压力、温升及电离度等造成的对送气盖板(5)的侵蚀。