[发明专利]一种离子源均匀送气结构装置无效
| 申请号： | 201110347029.3 | 申请日： | 2011-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103094034A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 胡东京;吴巧艳;彭立波 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市中关村科*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子源 均匀 送气 结构 装置 | ||
1.一种应用于离子注入系统的离子源均匀送气结构装置，其送气盖板(5)及底板(4)均采用耐高温、耐高压、高强度、导电特性突出的钼质材料，而与之相连的送气管头部(6)采用陶瓷质地，以减少在气体流动过程中由于气体的压力、温升及电离度等造成的对送气盖板(5)的侵蚀。
2.如权利要求1所述的离子源均匀送气结构装置，通过在送气盖板(5)与底板(4)之间设置送气管路(501)至送气管路(507)，以达到气体均匀送气的目的。
3.如权利要求1所述的离子源均匀送气结构装置，送气盖板底面，如图2所示，设置的送气管路(501)至送气管路(507)呈纵横交错状，送入的气体通过主送气管路(501)向两边扩散。当气体到达两侧的支送气管路(504)至支送气管路(507)时，沿着支送气管路(504)，支送气管路(505)，送气管路(506)和送气管路(507)，又将气体送至含有送气孔的副送气管路(502)和副送气管路(503)；因送气管路(501)至送气管路(507)呈对称的几何分布，气体均匀的到达送气孔(508)至送气孔(519)，之后进入弧室腔内。
4.如权利要3所述的离子源均匀送气结构装置，送气盖板上表面，如图3所示，均匀分布的送气孔(508)至送气孔(519)，是使气体均匀地进入弧室的关键。当均匀气体到达弧室时，与从两边灯丝发射过来的电子发生碰撞，形成均匀的等离子体。
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