[发明专利]一种图形化蓝宝石衬底的制备方法在审
| 申请号： | 201110290773.4 | 申请日： | 2011-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103022278A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 肖志国;郑远志;武胜利;韩晓翠;闫晓红;刘伟 | 申请（专利权）人： | 大连美明外延片科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 116025 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种图形化蓝宝石衬底的制备方法。在蓝宝石衬底上积淀介质膜和光学膜，通过湿法或者干法刻蚀加工出周期图形。本发明实现了传统图形化衬底和光学反射镜优势的有机结合，提高器件的内外量子效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 蓝宝石 衬底 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括如下步骤：1)在蓝宝石衬底上采用等离子化学气相沉积或电子束蒸发的办法积淀介质膜，厚度为![]()
介质膜材料为氧化硅、氮氧化硅、氮化硅、氧化铝或氧化钛；2)利用电子束蒸发的方法积淀光学膜；3)通过光刻在光学膜上制备出光刻胶掩膜图形；4)刻蚀光学膜、介质层和蓝宝石衬底，形成周期性图形，蓝宝石衬底的刻蚀深度为![]()
5)将刻蚀完成的蓝宝石衬底放入去胶液中，去除表面残余光刻胶；其特征在于，光学膜采用光密介质和光疏介质交替排布，单层厚度为发光波长的四分之一，对数在3-30对；光疏介质为氧化硅、氮氧化硅、氮化硅或氧化镁，光密介质为氧化钛或氧化锆。
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