[发明专利]薄金属层光刻对准标记的制作方法有效
| 申请号： | 201110272670.5 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN103000616A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 童宇锋;李伟峰;陈福成 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种薄金属层光刻对准标记的制作方法，该方法在垫积薄金属层前，还包括以下步骤：1)在衬底介质层上，与要制作的光刻对准标记相对应的位置处，涂布光刻胶作为阻挡层，曝光，刻蚀；2)用与薄金属层的材质不同的金属或合金填充步骤1)刻蚀掉的区域；3)化学机械研磨填充区域表面，使其低于所述介质层。该方法通过改变薄金属层光刻对准标记的衬底结构，改善了薄金属层光刻对准标记的高低差和明暗对比度，从而实现了后层与薄金属层的直接对准，提高了前后层的对准精度，保证了产品的设计性能。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 光刻 对准 标记 制作方法 | ||
【主权项】：
薄金属层光刻对准标记的制作方法，其特征在于，在垫积薄金属层前，包括以下步骤：1)在衬底介质层上，与要制作的光刻对准标记相对应的位置处，涂布光刻胶作为阻挡层，曝光，刻蚀；2)用与薄金属层的材质不同的金属或合金填充步骤1)刻蚀掉的区域；3)化学机械研磨填充区域表面，使其低于所述介质层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司，未经上海华虹NEC电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110272670.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：吹塑成型机
- 下一篇：治疗家禽兔球虫病的复方蜂胶组合物及其制备方法
