[发明专利]一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板无效
| 申请号： | 201110202337.7 | 申请日： | 2011-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN102628973A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 王灿;何璇;王路 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板，用以解决现有彩膜基板的制作工艺复杂、成本较高的问题。该方法包括：每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留；所有膜层被部分保留的部分叠加形成所述黑矩阵。该技术方案降低了制作工艺复杂度，降低了制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板具有不同颜色的子像素和无法透光的黑矩阵，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括：每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留；所有膜层被部分保留的部分叠加形成所述黑矩阵。
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