[发明专利]一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板具有不同颜色的子像素和无法透光的黑矩阵，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括：

每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留；

所有膜层被部分保留的部分叠加形成所述黑矩阵。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述每次在基板上形成特定颜色的膜层后，进行成像显影操作，使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留，具体为：

在基板上涂布特定颜色的膜层；

采用具有遮光部、透光部和灰色调部的灰色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得所述特定颜色的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素，与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除，与黑矩阵区对应的部分被部分保留。

3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，

所述所有膜层包括红色树脂膜层、绿色树脂膜层和蓝色树脂膜层；

所述所有膜层被部分保留的部分的厚度相同。

4.如权利要求1、2或3所述的制作方法，其特征在于，

所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度相同。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，还包括：

进行成像显影操作，在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成保护层，在所述保护层的上方形成第一隔垫物。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述进行成像显影操作，在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成保护层，在所述保护层的上方形成第一隔垫物，具体为：

在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方涂布第一材料层，所述第一材料层为保护材料层或隔垫材料层；

采用具有半透光部、透光部的第一半色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得所述第一材料层与保护层区域对应的部分被部分保留以形成保护层，与第一隔垫物区对应的部分被完全保留以形成第一隔垫物。

7.如权利要求1或3所述的制作方法，其特征在于，

所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度不相同。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成平坦化层，在所述平坦化层的上方形成第二隔垫物；

其中，所述平坦化层用于消除所述不同颜色的子像素与所述黑矩阵之间存在的角段差。

9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成平坦化层，在所述平坦化层的上方形成第二隔垫物，具体为：

在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方涂布第二材料层，所述第二材料层为平坦化材料层或隔垫材料层；

采用具有半透光部、透光部的第二半色调掩模版进行掩模、曝光和显影，使得所述第二材料层与保护层区域对应的部分被部分保留以形成保护层，与第二隔垫物区对应的部分被完全保留以形成第二隔垫物。

10.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

基板；

不同颜色的子像素，形成于所述基板上；

由所述不同颜色的子像素对应的膜层的材料叠加而成的黑矩阵，形成于所述基板上。

11.如权利要求10所述的彩膜基板，其特征在于，

所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度相同；

所述彩膜基板还包括：

保护层，形成于所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方；

第一隔垫物，形成于所述保护层的上方。

12.如权利要求10所述的彩膜基板，其特征在于，

所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度不相同；

所述彩膜基板还包括：

平坦化层，形成于所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方；

第二隔垫物，形成于所述平坦化层的上方。