[发明专利]一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板无效

专利信息
申请号: 201110202337.7 申请日: 2011-07-19
公开(公告)号: CN102628973A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 王灿;何璇;王路 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别涉及一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板和填充在两者之间的液晶材料。其中彩膜基板包括基板和形成于基板上的彩色滤光片,彩色滤光片包括均匀间隔排列的子像素(通常包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素这三基色子像素)和位于各子像素间隙的黑矩阵。子像素用来使显示器最终呈现出的图像是彩色的,黑矩阵用来遮住不打算透光的部分,比如氧化铟锡的走线、金属走线或者薄膜晶体管等。

通常,彩色滤光片在液晶显示面板中的成本比重较大,而随着薄膜晶体管液晶显示器技术的发展,对于生产成本的降低和制造工艺的进一步完善的要求更加迫切。

如图1所示,现有的彩膜基板包括基板11、黑矩阵12和三基色子像素13。该彩膜基板的制作工艺为:经过一道成像显影工艺,在基板11上形成黑矩阵12;经过三道成像显影工艺,在基板上形成三基色子像素13。该制作工艺包括四道成像显影工艺,工序复杂,成本较高。

发明内容

本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法和彩膜基板,用以解决现有彩膜基板的制作工艺复杂、成本较高的问题。

本发明实施例提供一种彩膜基板的制作方法,所述彩膜基板具有不同颜色的子像素和无法透光的黑矩阵,所述彩膜基板的制作方法包括:

每次在基板上形成特定颜色的膜层后,进行成像显影操作,使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素,与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除,与黑矩阵区对应的部分被部分保留;

所有膜层被部分保留的部分叠加形成所述黑矩阵。

所述每次在基板上形成特定颜色的膜层后,进行成像显影操作,使得本次形成的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素,与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除,与黑矩阵区对应的部分被部分保留,具体为:

在基板上涂布特定颜色的膜层;

采用具有遮光部、透光部和灰色调部的灰色调掩模版进行掩模、曝光和显影,使得所述特定颜色的膜层与所述特定颜色的子像素区对应的部分被完全保留以形成所述特定颜色的子像素,与其它颜色的子像素区对应的部分被完全去除,与黑矩阵区对应的部分被部分保留。

所述所有膜层包括红色树脂膜层、绿色树脂膜层和蓝色树脂膜层;

所述所有膜层被部分保留的部分的厚度相同。

所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度相同。

所述的制作方法,还包括:

进行成像显影操作,在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成保护层,在所述保护层的上方形成第一隔垫物。

所述进行成像显影操作,在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成保护层,在所述保护层的上方形成第一隔垫物,具体为:

在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方涂布第一材料层,所述第一材料层为保护材料层或隔垫材料层;

采用具有半透光部、透光部的第一半色调掩模版进行掩模、曝光和显影,使得所述第一材料层与保护层区域对应的部分被部分保留以形成保护层,与第一隔垫物区对应的部分被完全保留以形成第一隔垫物。

所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度不相同。

所述的制作方法,还包括:

在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成平坦化层,在所述平坦化层的上方形成第二隔垫物;

其中,所述平坦化层用于消除所述不同颜色的子像素与所述黑矩阵之间存在的角段差。

所述在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方形成平坦化层,在所述平坦化层的上方形成第二隔垫物,具体为:

在所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方涂布第二材料层,所述第二材料层为平坦化材料层或隔垫材料层;

采用具有半透光部、透光部的第二半色调掩模版进行掩模、曝光和显影,使得所述第二材料层与保护层区域对应的部分被部分保留以形成保护层,与第二隔垫物区对应的部分被完全保留以形成第二隔垫物。

本发明实施例还提供一种彩膜基板,包括:

基板;

不同颜色的子像素,形成于所述基板上;

由所述不同颜色的子像素对应的膜层的材料叠加而成的黑矩阵,形成于所述基板上。

其中,当所述子像素对应的膜层的厚度与所述黑矩阵的厚度相同时,所述彩膜基板还包可括:

保护层,形成于所述不同颜色的子像素和黑矩阵的上方;

第一隔垫物,形成于所述保护层的上方。

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