[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201110106784.2 | 申请日： | 2011-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN102758175A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;戴龙文;林顺茂 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件，其包括基材及形成于基材表面的合金层，该合金层含有铁、硅、硼及碳，其中铁的原子百分含量为60~95%，硅的原子百分含量为1~20%，硼的原子百分含量为1~10%，碳的原子百分含量为1~10%。本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。本发明镀膜件的制备方法，采用PVD镀膜技术并使用特殊成份的合金靶，在基材的表面制备获得合金层，所述合金层具有较高的硬度且与基材附着牢固，可有效防止基材被磨损，相应地延长了镀膜件的使用寿命。所述制备方法工艺简单、绿色环保且成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，包括基材及形成于基材表面的合金层，其特征在于：该合金层含有铁、硅、硼及碳，其中铁的原子百分含量为60~95%，硅的原子百分含量为1~20%，硼的原子百分含量为1~10%，碳的原子百分含量为1~10%。
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