[发明专利]一种制作半导体薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201010247730.3 申请日: 2010-08-06
公开(公告)号: CN102376889A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 李冬梅;汪幸;刘明;周文;侯成诚;闫学锋;谢常青;霍宗亮 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;G01N5/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种制作半导体薄膜的方法,该方法是在声表面波气体传感器的制造过程中,在双延迟线型振荡器的一条延迟线上滴涂碳纳米管与酞菁锌的混合溶液,并真空烘干而形成敏感膜的。因为通过将酞菁锌作为敏感材料去尝试制作敏感膜,使得常温下使用酞菁材料去检测NO2气体变为可能,而且掺杂的碳纳米管/酞菁锌传感器与纯的酞菁锌传感器相比,灵敏度和检测质量也会有一定的提高。
搜索关键词: 一种 制作 半导体 薄膜 方法
【主权项】:
一种制作半导体薄膜的方法,其特征在于,该方法是在声表面波气体传感器的制造过程中,在双延迟线型振荡器的一条延迟线上滴涂碳纳米管与酞菁锌的混合溶液,并真空烘干而形成敏感膜的。
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