[发明专利]一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置及方法无效
申请号: | 201010167809.5 | 申请日: | 2010-05-06 |
公开(公告)号: | CN101838800A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
发明(设计)人: | 孙立群;李赛;刁颖;徐金洲;石建军;钟方川;张菁 | 申请(专利权)人: | 东华大学 |
主分类号: | C23C16/503 | 分类号: | C23C16/503;C23C16/455;H05H1/24 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人: | 黄志达;谢文凯 |
地址: | 201620 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置及方法,同轴套置金属棒状电极和介质阻挡管形成电极-介质管,并行排列若干这样的电极-介质管成一个电极阵列面,上电极阵列面接高压线,下电极阵列面接地,电极轴向间夹角为0-180度,等离子体就产生在这样的上下两个电极阵列面之间。本发明利用这种电极阵列面构造介质阻挡放电的非对称电极结构,能够精确控制等离子体放电细丝通道的位置和放电时间,在连续运行的纤维或者薄膜表面均匀导入微纳米图案结构,降低了能耗并改善高性能纤维与树脂间的粘结性,以及纤维或者薄膜表面生物细胞的生长状态、纤维或薄膜表面的光学特性等与表面微纳米图案结构有关的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 大气压 放电 等离子体 处理 材料 表面 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置,包括气室(1)、电极阵列面、样品支撑架(6)、牵引装置和高压电源,其特征在于,所述的气室(1)一端设有进口(8),另一端设有出口(9);所述的气室(1)的侧面上设有输气口(7);所述的气室(1)内部设有所述的样品支撑架(6);所述的样品支撑架(6)的位置与所述的进口(8)和出口(9)相对应;所述的样品支撑架(6)上下分别设有至少两个电极阵列面,其中,在所述的样品支撑架上方的电极阵列面称为上电极阵列面(4),在所述的样品支撑架下方的电极阵列面称为下电极阵列面(5);所述的上电极阵列面(4)与下电极阵列面(5)相互平行,并且一一对应;所述的电极阵列面由并行排列的至少二十根电极-介质管构成;所述的上电极阵列面(4)的电极-介质管在同一端用电压线(2)相连;所述的电压线(2)与所述的高压电源相连;所述的下电极阵列面(5)的电极-介质管在同一端用接地线(3)相连;所述的接地线(3)接地;所述的牵引装置包括相互连接的滚轮(10)和步进电机;所述的进口(8)处和所述的出口(9)处均设置有所述的滚轮(10)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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