[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201010158499.0 | 申请日： | 2002-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN101866806A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 池田太郎;饭塚八城;山本薰 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘春成 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的等离子体处理装置具有：处理室；设在所述处理室内，载置被处理体的载置台；设在所述处理室中，具有按照向着所述处理室内的中央的空间部喷出处理气体的方式开口的多个气体喷出孔的气体导入部；和设置在所述处理室的外侧、用于在所述处理室内生成等离子体的作为感应线圈的天线部件，该等离子体处理装置的特征为，利用所述天线部件，在所述处理室内激起等离子体，所述多个气体喷出孔向着处理室内的一点开孔。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，具有：处理室；设在所述处理室内，载置被处理体的载置台；设在所述处理室中，具有按照向着所述处理室内的中央的空间部喷出处理气体的方式开口的多个气体喷出孔的气体导入部；和设置在所述处理室的外侧、用于在所述处理室内生成等离子体的作为感应线圈的天线部件，该等离子体处理装置的特征为，利用所述天线部件，在所述处理室内激起等离子体，所述多个气体喷出孔向着处理室内的一点开孔。
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