[发明专利]曝光装置、曝光方法及组件制造方法有效
| 申请号： | 201010129961.4 | 申请日： | 2005-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101799636A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 大和壮一;长坂博之;菅原龙 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 组件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，透过液浸区域的液体将基板曝光，其特征在于具备：投影光学系统，具有第1光学元件；液浸机构，在配置于上述投影光学系统的像面侧的既定面与最靠近上述投影光学系统的像面的上述第1光学元件之间形成液体的液浸区域；及观察装置，用以观察上述液浸功能的喷嘴构件的下面的状态。
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