[发明专利]包括用于沉浸式光刻装置的传送区的环境系统有效
| 申请号： | 201010113626.5 | 申请日： | 2004-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN101813892A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·W·诺万克;安德鲁·J·黑兹尔顿;道格拉斯·C·沃特森 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种包括用于沉浸式光刻装置的传送区的环境系统，涉及控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)内的环境的环境系统(26)包括：流体屏障(254)，沉浸流体系统(252)，和传送区(256)。流体屏障(254)位于器件(30)附近，并且将传送区(256)保持在间隙(246)附近。沉浸流体系统(252)输送填充间隙(246)的沉浸流体(248)。传送区(256)将至少一部分邻近流体屏障(254)和器件(30)的沉浸流体(248)输送离开器件(30)。沉浸流体系统(252)能包括流体清除系统(282)，其与传送区(256)流体相连。传送区(256)能够用多孔金属制成。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 用于 沉浸 光刻 装置 传送 环境系统 | ||
【主权项】：
一种环境系统，用于控制投影系统的光学组件与沉浸式光刻装置中的晶片之间限定的间隙内的环境，在沉浸式光刻装置中所述间隙被配置成用沉浸流体填充，所述环境系统包括：容纳框；框支架，通过该框支架所述容纳框被可移动地支持；以及多孔材料，其邻近所述间隙放置，所述多孔材料被固定于所述容纳框，并且所述多孔材料包括多个用于收集离开所述间隙的沉浸流体的通道。
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