[发明专利]等离子体处理装置和其使用的处理气体供给装置

摘要

一种处理气体供给装置。该处理气体供给装置下游的管道内的气压保持在大气压以下，对应于FPD基板处理供给最适宜的处理气体。供给装置(400)向上部电极(300)供给处理气体，上部电极内的缓冲室(330)将中央室和周边室分开；处理气体供给装置具有将来自气箱(410)的处理气体2路分流的各分支管(404、406)，和调整流过这些分支管的流量的流量调整单元(420、430)，和将各分支管的处理气体分别导入中央室和周边室的管道；各流量调整单元具有各分支管上安装的开关阀(422、432)和固定节流阀(424、434)，连接中央室的分支管的流量调整单元设有与开关阀和固定节流阀并列的旁通管(404A)，同时旁通管安装有开关阀(422A)。

主权项

1、一种等离子体处理装置，其处理室内相对配置有第1电极和第2电极，在所述第2电极支承的平板显示器用基板上导入处理气体，并且向上述电极中的1个或2个供给高频电压，生成等离子体，对所述平板显示器用基板施行指定的等离子体处理，其特征在于：具有向所述第1电极供给处理气体的处理气体供给装置，所述第1电极，具有与所述第2电极相对，形成有将所述处理气体向所述处理室内喷出的多个气体喷射孔的电极板，和支承所述电极板的支承体，和形成在所述支承体和所述电极板之间，导入所述处理气体的中空部，和将所述中空部分成中央室和周边室的环状分隔壁，所述处理气体供给装置，具有处理气体供给单元，和将来自所述处理气体供给单元的处理气体2路分流的各分支管，和调整流过这些分支管的流量的流量调整单元，和将来自所述各分支管的处理气体分别导入所述中央室和所述周边室的管道，所述各流量调整单元，具有所述各分支管上安装的开关阀和固定节流阀，连接所述中央室的分支管的流量调整单元，具有与所述开关阀和所述固定节流阀并列的旁通管，并且所述旁通管上安装有开关阀。