[发明专利]一种连续的脉冲激光镀膜装置无效
| 申请号： | 200910093915.0 | 申请日： | 2009-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102031491A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 杨坚;张华 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/28 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 朱丽华 |
| 地址： | 100088*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种连续的脉冲激光镀膜装置，由真空镀膜室、泵抽及真空测量系统、气路及电控系统组成，所述气路系统的各气路接入真空镀膜室，真空镀膜室内布控有若干脉冲激光镀膜用靶材装置，靶材装置上有可实现公转及自转的靶材，配置一基带卷绕系统，该基带卷绕系统包括有分置在真空镀膜室两侧的放带室及收带室，放带室及收带室与真空镀膜室通过管道相通，放带室及收带室间的走带穿越该管道及真空镀膜室，在真空镀膜室的一侧管道中布有磁控溅射靶。它可在不破坏真空的条件下，在腔体内辅助配有磁控溅射镀膜功能，从而可实现对样品单一或多种、间断或连续的镀膜，尤其对同一个样品可连续完成脉冲激光沉积和磁控溅射镀膜过程中的一个或多个镀膜过程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 脉冲 激光 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种连续的脉冲激光镀膜装置，由真空镀膜室、泵抽及真空测量系统、气路及电控系统组成，所述气路系统的各气路接入真空镀膜室，在真空镀膜室内布控有若干个脉冲激光镀膜用靶材，其特征在于：所述的靶材可公转及自转，配置一基带卷绕系统，该基带卷绕系统包括有分置在真空镀膜室两侧的放带室及收带室，放带室及收带室与真空镀膜室通过管道相通，放带室及收带室间的走带穿越该管道及真空镀膜室，在真空镀膜室的一侧管道中布有磁控溅射靶。
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