[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质有效

专利信息
申请号: 200880023114.0 申请日: 2008-06-26
公开(公告)号: CN101689528A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 关户幸一;前川浩治;鹰野国夫 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/68
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 龙 淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板处理装置,该装置能够防止在用热处理模块对晶片(W)进行多次热处理时因支承部件的支承所导致的晶片(W)损伤。本发明的晶片处理装置具有用于对半导体晶片(W)的处理方案中的处理条件和半导体晶片(W)的方向关联地进行设定的方案设定部。通过该方案设定部设定半导体晶片(W)的方向,能够在位置对合模块中对合半导体晶片(W)的方向使之成为设定的方向。通过这样的结构,能够使每次用热处理模块进行热处理时半导体晶片背面的由支承部件(60a、60b、60c)所支承的部位(R)发生变化。
搜索关键词: 处理 装置 方法 以及 存储 介质
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其特征在于:包括热处理模块,具有对半导体晶片从背面局部地进行支承的支承部件,对所支承的半导体晶片进行热处理;方案设定部,能够对半导体晶片的处理方案中的处理条件和半导体晶片的方向关联地进行设定;位置对合模块,与所述方案设定部连接,对合半导体晶片的方向使之成为由所述方案设定部所设定的方向;搬入端口,使得收纳有多块半导体晶片的装载体被搬入;和搬送机构,将从被搬入所述搬入端口的装载体取出的半导体晶片搬送到位置对合模块,所述搬送机构进而为了向热处理模块进行搬送,从位置对合模块取出半导体晶片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880023114.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top