[发明专利]基板处理设备及基板处理方法无效
| 申请号： | 200880014321.X | 申请日： | 2008-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101675178A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木雅夫 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供用于改进金属掩模的作为较薄区域的图案区域到基板的附着性的基板处理设备和基板处理方法。根据本发明的一个实施方式，在用于使用磁体(007)将金属掩模(006)固定成与基板(005)的待处理表面紧密接触的方法中，金属掩模(006)具有厚区域和薄区域。磁体(007)在面对基板(005)的一侧具有至少一个位于N极和S极之间的交界并且形成为使得该交界仅面对金属掩模(006)的厚区域。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理设备，包括：磁体，在处理基板时该磁体被配置在所述基板的待处理表面的相反侧，并且该磁体具有位于N极和S极之间的交界部；以及磁性掩模，该磁性掩模被配置成在处理所述基板时面对所述基板的所述待处理表面，并且该磁性掩模具有图案区域和框架区域，所述框架区域的厚度大于所述图案区域的厚度，其中，使所述框架区域面对所述交界部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能安内华股份有限公司，未经佳能安内华股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880014321.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一体式修边模及方法
- 下一篇：板坯旋转装置的控制方法及其控制系统
- 同类专利
- 专利分类
