[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读存储介质有效
申请号: | 200880000122.3 | 申请日: | 2008-03-28 |
公开(公告)号: | CN101542713A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 近藤圭祐 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;C23C14/56;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读存储介质。其中,基板处理装置通过输送室内的基板输送部将基板自载置在搬入搬出口上的搬运容器内取出后交接给处理组件,并在该处理组件内进行基板的处理。该基板处理装置包括以与该输送室相连通的方式通过输送口与输送室的外侧相连接的基板保管室、设在基板保管室中,以第1保管目的保管多个基板的第1保管架、设在基板保管室中,以与第1保管目的不同的第2保管目的保管多个基板的第2保管架、以及为了使第1保管架以及第2保管架中一方的基板保管区域处于可通过输送口在该基板保管区域与基板输送部之间交接基板的位置,移动该第1保管架以及第2保管架的移动机构。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 以及 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理装置,该基板处理装置通过输送室内的基板输送部将基板自载置在搬入搬出口上的搬运容器内取出而交接给处理组件,并在该处理组件内进行基板的处理,其中,该基板处理装置包括基板保管室、第1保管架、第2保管架和移动机构;上述基板保管室以与上述输送室相连通的方式通过输送口与该输送室的外侧相连接;上述第1保管架设在上述基板保管室中,以第1保管目的来保管多个基板;上述第2保管架设在上述基板保管室中,以与上述第1保管目的不同的第2保管目的来保管多个基板;为了使上述第1保管架以及第2保管架中的一个保管架的基板保管区域处于可通过上述输送口在该基板保管区域与上述基板输送部之间进行基板的交接的位置,上述移动机构使该第1保管架以及第2保管架移动。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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