[发明专利]一种凹印版及其制作方法和真空沉积镀膜装置有效
申请号: | 200710301411.4 | 申请日: | 2007-12-27 |
公开(公告)号: | CN101181848A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 刘永江;李晓伟;曾飞;潘峰;桂应琪;李万里 | 申请(专利权)人: | 中国印钞造币总公司 |
主分类号: | B41N1/00 | 分类号: | B41N1/00;B32B33/00;B32B9/00;C23C14/35 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张杰 |
地址: | 100044北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种凹印版,该凹印版由凹印版金属基材以及镀膜层构成,其特征在于,所述镀膜层包括位于所述金属基材上部的至少两层由金属层和金属碳化物或氮化物层交替构成的基础镀膜层,以及位于所述基础镀膜层上部的具有亲水性能的表面镀膜层。其中,所述基础镀膜层的金属为Cr或Ti。本发明还进一步公开了制备上述凹印版的真空沉积制备工艺,以及制造上述凹印版的镀膜装置。与传统电镀工艺相比,采用真空沉积法制备印版表面的铬层可解决电镀工艺存在的环保问题;此外,该凹印版具有多个镀膜层且光洁度很高,具有良好的耐磨性和耐印量,且能节省油墨用量。 | ||
搜索关键词: | 一种 凹印版 及其 制作方法 真空 沉积 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
1.一种凹印版,由凹印版金属基材以及镀膜层构成,其特征在于,所述镀膜层包括位于所述金属基材上部的至少两层由金属层和金属碳化物或氮化物层交替构成的基础镀膜层,以及位于所述基础镀膜层上部的至少包含TiO2层的具有亲水性能的表面镀膜层。
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