[发明专利]体电阻控制技术无效
申请号: | 200680008126.7 | 申请日: | 2006-06-14 |
公开(公告)号: | CN101506979A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
发明(设计)人: | 本杰明·万卡姆普;格尔德·沃蒙特 | 申请(专利权)人: | 沙诺夫欧洲公司;沙诺夫公司 |
主分类号: | H01L27/10 | 分类号: | H01L27/10;H01L29/739;H01L23/62;H01L29/76;H01L29/94;H01L31/062;H01L31/113;H01L31/119 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杜日新 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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摘要: | 本发明提供一种用于提供ESD保护的MOS晶体管器件,包括至少一个具有源区、漏区和在源区和漏区之间配置的沟道区上面形成的栅区的交错指状物。该晶体管器件进一步包括在交错指状物中至少一个指状物内形成的至少一个隔离栅。该器件能够进一步包括经由通过二极管、MOS、电阻器、电容器、电感器、短路等等至少其中之一与源区、漏区和栅区至少其中之一耦接的体连接。该体连接是优选通过隔离栅来隔离的。 | ||
搜索关键词: | 电阻 控制 技术 | ||
【主权项】:
1. 一种用于提供ESD保护的静电放电(ESD)MOS晶体管,上述MOS晶体管包括:包括至少一个第一导电类型源区、至少一个第一导电类型漏区以及在上述源和漏区之间配置的沟道区上面形成的至少一个栅区的至少一个交错指状物;以及在至少一个上述交错指状物的源区、漏区和栅区中的至少一个区域内形成的至少一个隔离栅。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的