[发明专利]源极/漏极电极、晶体管衬底及其制造方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 200610114890.4 申请日: 2006-08-16
公开(公告)号: CN1917218A 公开(公告)日: 2007-02-21
发明(设计)人: 钉宫敏洋;后藤裕史 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L29/43;H01L21/84;H01L21/336;H01L21/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在包含基板、薄膜晶体管半导体层、源极/漏极电极和透明像素电极的薄膜晶体管衬底中,所述源极/漏极电极包括铝合金薄膜,所述铝合金含0.1-6原子%的镍作为合金元素,并且直接连接到所述的薄膜晶体管半导体层上。
搜索关键词: 源极 电极 晶体管 衬底 及其 制造 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管衬底,其包含基板、半导体层、源极/漏极电极和透明像素电极,所述的源极/漏极电极包含铝合金薄膜,该铝合金含0.1-6原子%的镍作为合金元素,其中所述的源极/漏极电极被设置成所述的铝合金薄膜直接连接到所述的半导体层上。
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