[发明专利]抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法无效
| 申请号： | 200510099560.8 | 申请日： | 2005-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1746253A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 平野淳一;松波靖;横道典孝 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;G11B5/84;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;董红曼 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种抛光组合物，包含有研磨剂；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1－羟基亚乙基－1，1－焦磷酸中的至少一种酸；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1－羟基亚乙基－1，1－焦磷酸中一种酸的钠盐、钾盐和锂盐中的至少一种盐；氧化剂；以及水。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，其特征在于，包含：含二氧化硅的研磨剂；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1-羟基亚乙基-1，1-焦磷酸中的至少一种酸；选自正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、六偏磷酸、酸式磷酸甲酯、酸式磷酸乙酯、酸式磷酸乙二醇酯、酸式磷酸异丙酯、植酸和1-羟基亚乙基-1，1-焦磷酸中一种酸的钠盐、钾盐和锂盐中的至少一种盐；氧化剂；以及水。
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