[发明专利]高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法

摘要

本发明是有关一种高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法，该方法主要利用超纯水与气相臭氧，在具有重力场的一机构环境中的气、液溶解结合制程、清洗溶液浓度动态分析制程与资料馈控技术，包含高浓度大流量液相臭氧水的制作为清洗溶液、晶圆清洗同时对溶液中臭氧、添加剂浓度与水温的动态监测，和监测值分析馈送并反应进行调整控制运作，而在维持有效晶圆表面清洗能力下，进行连续式快速的大量晶圆清洗。该系统包含一液相臭氧生成机构、一储槽或清洗槽、一添加剂供应机构、一监控机构及一自动馈控机构。

主权项

1.一种高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统，是用以配合半导晶圆进行连续式大量清洗的系统，该系统架构包含：一液相臭氧生成机构，进行超纯水与气相臭氧的重力场高质传接触溶解环境，以获得高臭氧液相溶解的晶圆清洗溶液；一清洗槽，管路连结前述液相臭氧生成机构取得清洗溶液与储置，并提供晶圆浸入清洗的空间；一添加剂供应机构，连结前述清洗槽，受控进行添加剂的添加；一监控机构，布设于前述清洗槽中，在清洗过程中实时侦测清洗溶液各种应用参数，并回馈该资料于一自动馈控机构；一自动馈控机构，输入并记忆溶液应用参数设定值；并接受前述监控机构侦测回馈的各种参数资料，实时的进行收集与分析、比对设定标准值，同时对于比对结果作出迅速的反应机制，进而迅速调整各项操作参数，以维持溶液具有最佳氧化分解能力，保持最有效对晶圆表面的有机物(如光阻)或其它氧化层的移除，更可以用以大量且连续式的清洗晶圆。