[发明专利]800nm布拉格反射镜式半导体可饱和吸收镜无效

专利信息
申请号: 200410046497.7 申请日: 2004-06-10
公开(公告)号: CN1707292A 公开(公告)日: 2005-12-14
发明(设计)人: 王勇刚;马骁宇 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;H01S3/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种800nm布拉格反射镜式半导体可饱和吸收镜,包括:一衬底;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一布拉格反射镜,该布拉格反射镜制作在缓冲层上,形成一高反射率的反射镜;一量子阱,该量子阱制作在布拉格反射镜上,形成第一吸收区;该第一吸收区采用界于低温和常温之间温度生长的吸收区,非饱和损耗较小;该第一吸收区也兼作为载流子弛豫区;一盖层,该盖层制作在量子阱上,兼作第二吸收区,该盖层与空气间高密度的表面态是载流子弛豫的通道,作为载流子第二弛豫区。
搜索关键词: 800 nm 布拉格 反射 半导体 饱和 吸收
【主权项】:
1、一种800nm布拉格反射镜式半导体可饱和吸收镜,其特征在于,包括:一衬底;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一布拉格反射镜,该布拉格反射镜制作在缓冲层上,形成一高反射率的反射镜;一量子阱,该量子阱制作在布拉格反射镜上,形成第一吸收区;该第一吸收区采用界于低温和常温之间温度生长的吸收区,非饱和损耗较小;该第一吸收区也兼作为载流子弛豫区;一盖层,该盖层制作在量子阱上,兼作第二吸收区,该盖层与空气间高密度的表面态是载流子弛豫的通道,作为载流子第二弛豫区。
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