[发明专利]等离子体连续聚合处理装置气体系统无效
申请号: | 01136331.2 | 申请日: | 2001-10-10 |
公开(公告)号: | CN1412208A | 公开(公告)日: | 2003-04-23 |
发明(设计)人: | 金丙玑 | 申请(专利权)人: | 乐金电子(天津)电器有限公司 |
主分类号: | C08F2/52 | 分类号: | C08F2/52;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/56 |
代理公司: | 天津三元专利事务所 | 代理人: | 王念冬 |
地址: | 30040*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 等离子体连续聚合处理装置气体系统涉及一种等离子体连续聚合处理装置的气体系统,其处理装置包括多个聚合燃烧室,其中至少有一个聚合燃烧室内的带状材料是由该聚合燃烧室的下部向上移动的,注入原料气体的气体注入口和排出气体的气体排出口分设于聚合燃烧室的上部或下部。聚合燃烧室内的气体流动方向与带状材料移动方向互相平行,反应气体可均匀喷涂于材料的表面,故可获得高品质的表面处理。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 连续 聚合 处理 装置 气体 系统 | ||
【主权项】:
1、一种等离子体连续聚合处理装置气体系统,包括多个聚合燃烧室,其中至少一个聚合燃烧室内的被处理带状材料是由燃烧室的下部向上移动;本发明的特征在于气体注入口和气体排出口分设于该聚合燃烧室的上部或下部,聚合燃烧室内的气体流动方向与材料移动方向平行。
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