“X·常”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果11个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于较高的流导的对称流量阀-CN202080057808.7在审
发明人： A·恩古耶;Y·S·维什瓦纳特;X·常;A·拉亚罗思;C·奈克;B·J·纳拉扬 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： F16K1/36 文献下载
摘要：在本文中提供了用于基板处理腔室中的对称的流量阀的实施例。在一些实施例中，一种对称的流量阀包括：阀体，所述阀体具有侧壁、底板和顶板，所述侧壁、所述底板和所述顶板一起界定内部空间，其中所述顶板包括：一个或多个轴对称地设置的开口；提升阀，设置在所述内部空间中，其中所述提升阀包括：中央开口和多个部分，所述多个部分经配置以在对称的流量阀处于封闭位置时，选择性地密封顶板的一个或多个轴对称地设置的开口；和第一致动器，所述第一致动器耦接至提升阀以将提升阀定位在内部空间内位于至少开放位置、以及所述封闭位置，其中在所述开放位置，提升阀与顶板间隔开以允许流量通过顶板的一个或多个轴对称地设置的开口。
用于对称流量

[发明专利]减少聚合物沉积的设备和方法-CN201911226343.9在审
发明人： A·恩古耶;X·常;S·劳夫;J·A·肯尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种减少聚合物沉积的设备和方法。本公开的实现方式提供了一种用于静电吸盘的工艺配件。在一个实现方式中，提供了一种衬底支撑组件。所述衬底支撑组件包括静电吸盘，所述静电吸盘具有形成在所述静电吸盘的上部分中的第一凹陷。工艺配件包围所述静电吸盘。所述工艺配件包括内环和设置在所述内环的径向外侧的外环。所述外环包括形成在上环的上部分中的第二凹陷。所述内环定位在所述第一凹陷和所述第二凹陷内并由所述第一凹陷和所述第二凹陷支撑。所述内环的上表面和所述外环的上表面是共面的。
减少聚合物沉积设备方法

[实用新型]减少聚合物沉积的设备-CN201922202771.X有效
发明人： A·恩古耶;X·常;S·劳夫;J·A·肯尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开的实现方式提供了一种衬底支撑组件。本公开的实现方式提供了一种用于静电吸盘的工艺配件。在一个实现方式中，提供了一种衬底支撑组件。所述衬底支撑组件包括静电吸盘，所述静电吸盘具有形成在所述静电吸盘的上部分中的第一凹陷。工艺配件包围所述静电吸盘。所述工艺配件包括内环和设置在所述内环的径向外侧的外环。所述外环包括形成在上环的上部分中的第二凹陷。所述内环定位在所述第一凹陷和所述第二凹陷内并由所述第一凹陷和所述第二凹陷支撑。所述内环的上表面和所述外环的上表面是共面的。
减少聚合物沉积设备

[实用新型]处理工具以及流导调节系统-CN201920616717.7有效
发明人： A·恩古耶;Y·S·维舍瓦纳斯;X·常 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了半导体基板处理设备和方法。本文所述的实施例包括一种处理工具，所述处理工具包括被配置为用于处理压力的快速和稳定的变化。在一个实施例中，所述处理工具可以包括腔室主体。在一个实施例中，所述腔室主体是真空腔室。所述处理工具可以进一步包括吸盘，所述吸盘用于支撑腔室主体中的基板。在一个实施例中，所述处理工具还可以包括环绕所述吸盘的阴极衬里和与所述阴极衬里对准的流限制环。在一个实施例中，所述阴极衬里和所述流限制环在主处理容积与所述真空腔室的外围容积之间限定开口。
处理工具以及调节系统

[实用新型]用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备-CN201920905971.9有效
发明人： X·常;A·恩古耶 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-06-17 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本文提供用于在基板支撑件中使用的工艺配件部件的实施方式以及结合有所述实施方式的基板支撑件。在一些实施方式中，所述基板支撑件可以包括：主体；接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成；衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘；金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置以将所述衬里耦接到所述接地外壳；以及第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并覆盖所述金属紧固件。
用于减少等离子体蚀刻中的污染设备

[发明专利]用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备-CN201910524333.7在审
发明人： X·常;A·恩古耶 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-06-17 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本文提供用于在基板支撑件中使用的工艺配件部件的实施方式以及结合有所述实施方式的基板支撑件。在一些实施方式中，所述基板支撑件可以包括：主体；接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成；衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘；金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置以将所述衬里耦接到所述接地外壳；以及第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并覆盖所述金属紧固件。
衬里接地外壳基板支撑件金属紧固件上唇缘导电材料绝缘体环工艺配件向内穿过延伸覆盖

[发明专利]半导体基板处理设备和方法-CN201910360899.0在审
发明人： A·恩古耶;Y·S·维舍瓦纳斯;X·常 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了半导体基板处理设备和方法。本文所述的实施例包括一种处理工具，所述处理工具包括被配置为用于处理压力的快速和稳定的变化。在一个实施例中，所述处理工具可以包括腔室主体。在一个实施例中，所述腔室主体是真空腔室。所述处理工具可以进一步包括吸盘，所述吸盘用于支撑腔室主体中的基板。在一个实施例中，所述处理工具还可以包括环绕所述吸盘的阴极衬里和与所述阴极衬里对准的流限制环。在一个实施例中，所述阴极衬里和所述流限制环在主处理容积与所述真空腔室的外围容积之间限定开口。
处理工具吸盘阴极衬里半导体基板处理腔室主体真空腔室限制环处理压力限定开口室主体支撑腔主处理基板对准环绕外围配置

[发明专利]原位半导体处理腔室温度装置-CN201880014818.5在审
发明人： A·恩古耶;Y·萨罗德;X·常;K·拉马斯瓦米 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-02 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：在一个实现中，提供了一种喷头组件。喷头组件包括第一电极和气体分配面板，第一电极具有穿过所述第一电极的多个开口，气体分配面板附接到电极的第一下主表面。气体分配板包括多个通孔，用于将工艺气体输送至处理腔室。气体分配板被分成多个温度控制区域。喷头组件进一步包括急冷板和多个热控制装置，急冷板位于电极上方用于提供温度控制，多个热控制装置用以管理喷头组件内的热传递。热控制装置包括热电模块和与热电模块耦接的热管组件。多个热控制装置中的每一个与温度控制区域相关联，并向其相关联的温度控制区域提供独立的温度控制。
热控制装置喷头组件温度控制区域第一电极气体分配面板气体分配板热电模块急冷板电极半导体处理腔室关联处理腔室工艺气体热管组件温度装置热传递主表面通孔耦接开口穿过管理

[发明专利]护发产品及护发方法-CN201480079693.6在审
发明人：姜义华;X·常;B·考克斯 -专利权人：汉高股份有限及两合公司
申请日： 2014-06-11 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： A61K8/04 文献下载
摘要：本发明提供了护发产品，其包含水包油乳剂A和水包油乳剂C，其中乳剂A具有的pH值是大于7.0至12.0，并且含有a1)至少一种阳离子表面活性剂A，以及a2)至少一种氨基官能化的硅氧烷A；并且乳剂C具有的pH值是2.0至低于7.0，并且含有c1)至少一种阳离子表面活性剂C，其中表面活性剂A和表面活性剂C可以彼此相同或不同，以及c2)至少一种硅氧烷C，其中硅氧烷C和氨基官能化的硅氧烷A可以彼此相同或不同，其中乳剂A和乳剂C在使用前彼此分离。本发明还提供了通过使用根据本发明的护发产品进行护发的方法。
护发产品方法

[发明专利]用于配置模式定时器的方法及装置-CN200880016178.8无效
发明人： X·常;R·哈尔夫曼;胡臻平;罗济军;邱巍;史宏逵 -专利权人：诺基亚西门子通信有限责任两合公司
申请日： 2008-03-17 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： H04W52/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于配置模式定时器的方法，该模式定时器控制用户设备(UE)处于节能模式的概率以使所述用户设备(UE)适应共享信道和分组业务的特性，所述方法包括步骤：通过将所述用户设备(UE)的电力状况值和至少一个数据流量要求值与预定阈值进行比较来确定用户设备(UE)的种类，以及根据基于数据流量要求值以及基于所述用户设备(UE)的电力状况值确定的用户设备(UE)的种类来调整模式定时器。
用于配置模式定时器方法装置

[发明专利]非致癌腐蚀抑制添加剂-CN200410055067.1无效
发明人： X·于;W·张;T·加洛申;P·巴蒂亚;M·亚沃罗夫斯基;F·拉姆;X·唐;A·贝辛;M·A·克里兹曼;X·常 -专利权人：联合工艺公司
申请日： 2004-06-29 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： C09D5/08 文献下载
摘要：一种非致癌耐腐蚀添加剂，包括阳极腐蚀抑制剂和/或阴极腐蚀抑制剂和金属络合剂形式的抑制剂溶解性增强剂。
致癌腐蚀抑制添加剂

1
共 11 条