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[发明专利]污染物检测系统和方法-CN202280014666.5在审
发明人： N·潘迪;J·L·克勒泽;M·E·帕洛斯基;郭玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种系统，可包括：光源，被配置成照射表膜的表面；扫描器，被配置成扫描表膜的表面；光谱仪，被配置成测量参考信号的拉曼光谱和测试信号的拉曼光谱，参考信号基于来自表膜的表面和/或掩模版的表面的测量结果，测试信号基于所照射的表膜的表面；以及处理器。处理器可配置成确定参考信号的拉曼光谱与测试信号的拉曼光谱之间的差异，以及响应于检测到参考信号的拉曼光谱与测试信号的拉曼光谱的偏差，识别表膜的表面上的污染物的存在。
污染物检测系统方法

[发明专利]用于术中重新配准的系统和方法-CN202280013743.5在审
发明人： J·雷德蒙;S·帕尔马蒂埃;V·斯奈德;N·潘迪;A·帕卡尔 -专利权人：美敦力导航股份有限公司
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： A61B34/20 文献下载
摘要：一种重新配准方法包括：接收第一图像，该第一图像描绘附接到患者并且相对于该患者以第一姿态取向的参考框架，该第一图像由安装到已被锁定在选定姿态的可移动支撑件的成像装置获得；接收第二图像，该第二图像描绘相对于该患者以第二姿态取向的该参考框架，该第二图像由该成像装置在该可移动支撑件被锁定在该选定姿态的情况下获得；以及更新该参考框架与该患者之间的配准，以反映该参考框架已从该第一姿态移动到该第二姿态。
用于重新系统方法

[发明专利]高力低电压压电微反射镜致动器-CN202180080481.X在审
发明人： L·R·S·哈斯帕拉夫;N·潘迪;T·W·范德伍德;哈利勒·戈凯·叶根;J·V·奥沃卡姆普;G·布瑞恩达尼托里;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;A·L·克莱因;E·A·奥索里奥欧利弗罗斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个多层压电致动器，所述至少一个多层压电致动器用于使所述反射镜移位，其中，所述至少一个多层压电致动器被连接至所述衬底，并且其中所述至少一个多层压电致动器包括多个压电材料压电层，所述多个压电材料压电层与多个电极层交错以形成叠置层。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或用于检查和/或量测设备中。
高力低电压压电反射镜致动器

[发明专利]暗场数字全息显微镜和相关的量测方法-CN202180076569.4在审
发明人： N·潘迪;A·J·登鲍埃夫;H·A·J·克瑞姆;V·T·滕纳 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-10-07 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括照射分支，所述照射分支用于提供照射辐射以照射所述结构；检测装置，所述检测装置用于捕获由所述结构对所述照射辐射的衍射所产生的物体辐射；以及参考分支，所述参考分支用于提供与物体束干涉的参考辐射，以获得由所述照射辐射和所述参考辐射形成的干涉图案的图像。所述参考分支具有光学元件，所述光学元件能够操作以改变所述参考辐射的特性，以便减小和/或最小化所述暗场数字全息显微镜的视场内的所述图像在检测器平面处的对比度度量的变化。
暗场数字全息显微镜相关方法

[发明专利]微反射镜阵列-CN202180083939.7在审
发明人： D·阿克布卢特;L·R·S·哈斯帕拉夫;N·潘迪;T·W·范德伍德;G·布瑞恩达尼托里;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;A·L·克莱因;J·V·奥沃卡姆普;哈利勒·戈凯·叶根;E·A·奥索里奥欧利弗罗斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个致动器，所述至少一个致动器用于使所述反射镜移位且所述至少一个致动器被连接至所述衬底；一个或更多个支柱，所述一个或更多个支柱将所述反射镜连接至所述至少一个致动器；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的热扩散器，所述热扩散器用于扩散来自所述反射镜的热，所述热扩散器包括散热件和将所述散热件连接至所述反射镜的导热柱，其中，所述散热件包括柔性隔膜，所述柔性隔膜允许所述导热柱在所述反射镜被移位时枢转，并且其中所述柔性隔膜包括中心部分和周边部分，所述中心部分被连接至所述导热柱且所述中心部分具有大于所述周边部分的厚度的厚度。
反射阵列

[发明专利]对非静止物体进行成像的方法和装置-CN202180080540.3在审
发明人： C·A·弗舒伦;F·兹杰普;N·潘迪;A·P·科尼杰南贝格 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：公开了一种光学成像系统和相关联的方法，该系统包括：载物台模块，其被配置为支撑物体使得物体的区域被照射束照射；物镜，其被配置为收集至少一个信号束，至少一个信号束源自物体的被照射区域；图像传感器，其被配置为捕获由物镜收集的至少一个信号束形成的图像；以及运动补偿机构，其可操作以补偿载物台模块在图像采集期间相对于物镜的相对运动。运动补偿机构引起以下各项中的一项或多项的补偿运动：所述物镜或其至少一个光学元件；所述图像传感器；和/或光学成像系统的检测分支和/或照射分支内包括的光学元件。
静止物体进行成像方法装置

[发明专利]高精度温度补偿压阻式位置感测系统-CN202180079827.4在审
发明人： L·R·S·哈斯帕拉夫;N·潘迪;T·W·范德伍德;哈利勒·戈凯·叶根;J·V·奥沃卡姆普;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;A·胡布里特;A·L·克莱因;G·布瑞恩达尼托里;E·A·奥索里奥欧利弗罗斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B81B7/00 文献下载
摘要：一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个压电致动器的一个或更多个导柱。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查和/或量测设备中。
高精度温度补偿压阻式位置系统

[发明专利]具有内切葡聚糖酶活性的多肽及其用途-CN201680081893.4有效
发明人： N·潘迪;R·R·博特;S·普莱斯鲁斯;A·萨昌;S·希普夫斯科夫;A·萨塔帕蒂 -专利权人：丹尼斯科美国公司
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C12N9/24 文献下载
摘要：本文公开了纤维素酶变体或其活性片段，以及编码所述纤维素酶变体或其活性片段的多核苷酸，其中所述纤维素酶变体或其活性片段具有内切葡聚糖酶活性。本文还公开了组合物，所述组合物包含所述纤维素酶变体或其活性片段；载体和/或宿主细胞，所述载体和/或宿主细胞包含编码所述纤维素酶变体或其活性片段的多核苷酸；和方法，所述方法用于制备和/或使用所述纤维素酶变体或其活性片段和/或含有所述纤维素酶变体或其活性片段的组合物；其中所述纤维素酶变体或其活性片段具有内切葡聚糖酶活性。
具有内切葡聚糖活性多肽及其用途

[发明专利]散射仪以及使用声学辐射的散射测量方法-CN201880067247.1有效
发明人： M·皮萨伦科;N·潘迪;A·波洛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-10-10 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种声学散射仪(502)具有声学源(520)，其可操作以将声学辐射(526)投影到形成在衬底(536)上的周期性结构(538)和(540)上。声学检测器(518)可操作以检测由周期性结构(538)和(540)衍射的负第一声学衍射阶(528)，同时区别于镜面反射(第0阶532)。另一声学检测器(522)可操作以检测由周期性结构衍射的正第一声学衍射阶(530)，同时再次区别于镜面反射(第0阶532)。声学源和声学检测器可以是压电换能器。相对于周期性结构(538)和(540)布置投影声学辐射(526)的入射角和检测器(518)和(522)的位置，使得对负第一声学衍射阶(528)和正第一声学衍射阶(530)的检测区别于第0阶镜面反射(532)。
散射以及使用声学辐射测量方法

[发明专利]量测方法和装置-CN201880057786.7有效
发明人： M·J·J·杰克;M·艾伯特;A·J·登博夫;N·潘迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法，包括：针对一个或多个测量质量参数，评估与使用图案化过程所处理的衬底的量测目标的测量相关联的多个偏振特性；并且基于测量质量参数中的一个或多个测量质量参数，从多个偏振特性中选择一个或多个偏振特性。
方法装置

[发明专利]量测方法和装置-CN201880062392.0有效
发明人： Y·K·斯玛雷弗;N·潘迪;A·E·A·库伦 -专利权人： ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种检查设备，包括：被配置为从具有正衍射级辐射和负衍射级辐射的量测目标接收衍射辐射的物镜；被配置为将衍射辐射分离成分别与多个不同值或类型的一个或多个辐射特性中的每个辐射特性相对应并且分别与正衍射级和负衍射级相对应的部分的光学元件；以及被配置为分别并且同时测量这些部分的检测器系统。
方法装置

[发明专利]用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法-CN202210653171.9在审
发明人： P·A·J·蒂内曼斯;A·J·登博夫;A·E·A·科伦;N·潘迪;V·T·滕纳;W·M·J·M·考恩;帕特里克·沃纳阿 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：描述了一种用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性的量测系统、和相关联的方法。所述量测系统包括处理器，所述处理器配置成根据被检测到的散射辐射的特性以计算的方式确定相位和振幅信息，作为在测量获取中用照射辐射来照射所述至少一个结构的结果，所述散射辐射已经被所述至少一个结构反射或散射，所述处理器配置成使用被确定的相位和振幅来确定感兴趣的特性。
用于确定衬底一个更多结构特性系统方法

[发明专利]用于参数确定的方法及其设备-CN201880049531.6有效
发明人： N·潘迪;M·皮萨连科;亚历山德罗·波洛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于根据量测目标的图像测量重叠的方法和设备，所述图像是使用声波获得，例如使用声波显微镜获得的图像。获得两个目标的图像，一个图像使用声波获得，一个图像使用光波获得，确定图像的边缘，根据两个图像的边缘之间的差获得两个目标之间的重叠。
用于参数确定方法及其设备

[发明专利]暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法-CN202080087946.X在审
发明人： W·M·J·M·柯恩;A·J·登鲍埃夫;V·T·滕纳;N·潘迪;C·弥赛西;J·F·迪鲍尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-10-21 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G03H1/04 文献下载
摘要：本发明披露一种暗场数字全息显微镜，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的所关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括：照射装置，所述照射装置被配置成至少提供：第一束对，所述第一束对包括第一照射辐射束(1010)和第一参考辐射束(1030)；和第二束对，所述第二束对包括第二照射辐射束(1020)和第二参考辐射束(1040)；和一个或更多个光学元件(1070)，所述一个或更多个光学元件能够操作以捕获由所述结构散射的第一散射辐射且捕获由所述结构散射的第二散射辐射，所述第一散射辐射和所述第二散射辐射分别由所述第一照射束和所述第二照射束而产生。所述第一束对的束是相互相干的，以及所述第二束对的束是相互相干的。所述照射装置被配置成在所述第一束对与所述第二束对之间强加非相干性(ADI)。
暗场数字全息显微镜相关方法

[发明专利]用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法-CN201880079102.3有效
发明人： P·A·J·蒂内曼斯;A·J·登博夫;A·E·A·科伦;N·潘迪;V·T·滕纳;W·M·J·M·考恩;帕特里克·沃纳阿 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：描述了一种用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性的量测系统、和相关联的方法。所述量测系统包括处理器，所述处理器配置成根据被检测到的散射辐射的特性以计算的方式确定相位和振幅信息，作为在测量获取中用照射辐射来照射所述至少一个结构的结果，所述散射辐射已经被所述至少一个结构反射或散射，所述处理器配置成使用被确定的相位和振幅来确定感兴趣的特性。
用于确定衬底一个更多结构特性系统方法

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