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[发明专利]量测传感器、光刻设备和用于制造器件的方法-CN201780078819.1有效
发明人：塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;N·潘迪;D·阿克布卢特;亚历山德罗·波洛;S·R·胡伊斯曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-11-15 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种量测传感器系统，诸如一种位置传感器。所述系统包括：光学收集系统，所述光学收集系统配置成收集来自衬底上的量测标记的衍射或散射辐射，所收集的辐射包括至少一个参数敏感信号和非参数敏感的噪声信号；处理系统，所述处理系统能够操作以处理所收集的辐射；以及模块壳体。光导被提供用于将与所述噪声信号分离的至少一个参数敏感信号从所述处理系统引导到所述壳体外部的检测系统。检测器检测所分离的至少一个参数敏感信号。用于阻挡第零阶辐射的遮蔽件和/或缩小光学系统可以设置于所述光导与所述检测器之间。
传感器光刻设备用于制造器件方法

[发明专利]检查设备、检查方法和制造方法-CN202110120313.0在审
发明人： A·J·登鲍埃夫;S·G·J·玛斯吉森;N·潘迪;S·威特;K·艾克玛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-08-13 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种检查设备、检查方法和制造方法。通过光刻过程在衬底(W)上形成量测目标。以空间相干辐射在不同的条件下照射包括一个或多个光栅结构的目标(T)。由所述目标区域衍射的辐射(650)与参考辐射(652)干涉，在图像检测器(623)处干涉形成干涉图案。捕获所述干涉图案的一个或多个图像。根据所捕获的图像和参考辐射的知识，计算检测器处的所收集的散射辐射的复数场。根据所述复数场，计算被每个光栅衍射的辐射的合成辐射量测图像(814、814’)。根据光栅衍射谱的相反部分的合成辐射量测图像(814、814’)，获得对所述光栅中的不对称度的量度。使用合适的目标，可以根据所量度的不对称度，计算光刻过程的重叠和其他性能参数。
检查设备方法制造

[发明专利]量测设备、光刻系统和测量结构的方法-CN201780075933.9有效
发明人： N·潘迪;A·E·A·科伦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了用于测量通过光刻过程在衬底上形成的结构的量测设备和方法。在一种布置中，光学系统利用辐射照射所述结构并检测被所述结构散射的辐射。光学系统包括第一发散元件(121)。第一发散元件使仅仅来自光瞳平面场分布的第一部分(41)的散射辐射沿着第一发散方向(56)以光谱形式发散。第二发散元件(122)与第一发散元件分离开并使仅仅来自所述光瞳平面场分布的第二部分(42)的散射辐射沿着第二发散方向(57)以光谱形式发散，所述光瞳平面场分布的第二部分与所述光瞳平面场分布的第一部分不同。
设备光刻系统测量结构方法

[发明专利]量测方法、图案形成装置、设备和计算机程序-CN201980077503.X在审
发明人：周子理;N·潘迪;O·V·兹维尔;P·沃纳尔;M·范德沙尔;E·G·麦克纳马拉;A·J·登博夫;P·C·欣南;M·博兹库尔特;J·J·奥腾斯;K·布哈塔查里亚;M·库比斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-10-07 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：测量套刻的方法使用来自在衬底(W)上形成的一对子目标(1032，1034)上的位置(LOI)的多个非对称性测量。对于每个子目标，基于设计到子目标中的已知偏移变化，多个非对称性测量被拟合为非对称性与套刻之间的至少一个预期关系(1502，1504)。在一个示例中，通过变化顶部光栅和底部光栅的节距(P1/P2)，来提供连续的偏移变化。该对子目标之间的偏移变化相等并且相反(P2/P1)。套刻(OV)基于针对两个子目标的拟合关系之间的相对移动(xs)来被计算。将非对称性测量拟合为至少一个预期关系的步骤包括：完全或部分忽略偏离预期关系和/或落在拟合关系的特定段之外的测量(1506，1508，1510)。
方法图案形成装置设备计算机程序

[发明专利]量测目标的方法、量测设备、偏振器组件-CN201780076029.X有效
发明人： N·潘迪;周子理 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了测量通过光刻过程形成的目标的方法、一种量测设备及一种偏振器组件。所述目标包括在第一层中具有第一周期性结构且在第二层中具有第二周期性结构的分层结构。用偏振测量辐射照射所述目标。检测来自所述目标的第零阶散射辐射。使用来自所述目标的检测的第零阶散射辐射来导出所述第一周期性结构中的不对称性。所述第一层与所述第二层之间的间隔使得所述检测的第零阶散射辐射与所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的重叠误差无关。所述第一周期性结构中的导出的不对称性用以导出第一周期性结构与第二周期性结构之间的正确的重叠值。
目标方法设备偏振组件

[发明专利]量测设备的调节或基于已测量目标的特性而由量测设备进行的测量-CN201680081810.1有效
发明人：罗伯特·约翰·索卡;A·J·登鲍埃夫;N·潘迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文披露了一种调节量测设备的方法，所述方法包括：将量测设备的光瞳平面中的强度分布在空间上划分成多个像素；通过使用计算机调节所述多个像素的强度，减少目标中的结构不对称性对由所述量测设备对所述目标进行的测量的影响。
设备调节基于测量目标特性进行

[发明专利]量测设备-CN201980057917.6在审
发明人： M·J·M·范达姆;A·J·登鲍埃夫;N·潘迪 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及辐射切换器，所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支。
设备

[发明专利]用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法-CN201780048092.2有效
发明人： S·A·戈登;N·潘迪;D·阿克布鲁特;T·W·图克;J·M·M·德维特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-07-17 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法。在一种布置中，光学系统接收具有相干性的辐射束。辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量。波导支持多个波导空间模式。光学系统将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的辐射束的多个分量引导到波导上，使得多个分量中的每个分量耦合到波导空间模式的不同集合，每个集合包括一个或多个波导空间模式。
用于处理具有相干性辐射装置方法

[发明专利]检查设备、检查方法和制造方法-CN201580046689.4有效
发明人： A·J·登鲍埃夫;S·G·J·玛斯吉森;N·潘迪;S·威特;K·艾克玛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-08-13 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：通过光刻过程在衬底(W)上形成量测目标。以空间相干辐射在不同的条件下照射包括一个或多个光栅结构的目标(T)。由所述目标区域衍射的辐射(650)与参考辐射(652)干涉，在图像检测器(623)处干涉形成干涉图案。捕获所述干涉图案的一个或多个图像。根据所捕获的图像和参考辐射的知识，计算检测器处的所收集的散射辐射的复数场。根据所述复数场，计算被每个光栅衍射的辐射的合成辐射量测图像(814、814’)。根据光栅衍射谱的相反部分的合成辐射量测图像(814、814’)，获得对所述光栅中的不对称度的量度。使用合适的目标，可以根据所量度的不对称度，计算光刻过程的重叠和其他性能参数。
检查设备方法制造

[发明专利]测量结构的方法、检查设备、光刻系统、器件制造方法和其中使用的波长选择滤光器-CN201780012412.9有效
发明人： N·潘迪;A·J·登鲍埃夫;M·J·M·范达姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-02-07 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：散射计执行目标结构的一个或更多个参数的基于衍射的测量。为了平行进行双色测量，该结构与具有第一波长和第一角度分布的第一辐射(302)、具有第二波长和第二角度分布的第二辐射(304)同时被照射。收集路径(CP)包括分段的波长选择滤光器(21,310)，其被布置成透过被衍射的第一辐射(302X，302Y)和被衍射的第二辐射(304X，304Y)的所需高阶部分，同时阻挡第一辐射和第二辐射的零阶部分(302”,304”)。在一个实施例中，照射路径(IP)包括匹配的分段波长选择滤光器(13,300)，其定向为使得通过照射光学系统和收集光学系统的零阶光线依赖于其波长而被所述滤光器之一或其它滤光器阻挡。
测量结构方法检查设备光刻系统器件制造其中使用波长选择滤光

[发明专利]量测设备-CN201980038794.1在审
发明人： N·潘迪;A·J·登鲍埃夫;D·阿克布卢特;M·J·M·范达姆;H·巴特勒;H·A·J·克拉默;E·A·F·范德帕斯奇;F·泽普;J·A·L·J·瑞马克;M·P·瑞因德斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于确定制作于衬底上的结构的感兴趣的参数的量测工具，所述量测工具包括：照射光学系统，用于利用照射辐射以一非零入射角照射所述结构；检测光学系统，包括检测光学传感器和至少一个透镜，所述至少一个透镜用于捕获被所述结构散射的照射辐射的部分并朝向所述检测光学传感器透射所捕获的辐射，其中所述照射光学系统和检测光学系统未共用光学元件。
设备

[发明专利]量测方法和设备、计算机程序及光刻系统-CN201680057525.6有效
发明人： N·潘迪;周子理;A·E·A·科伦;G·范德祖克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-09-13 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种用于测量光刻过程的参数的量测设备，以及相关的计算机程序和方法。该量测设备包括光学系统和透镜阵列，所述光学系统通过利用测量辐射照射衬底上的目标并检测由目标散射的测量辐射来测量目标。阵列中的每个透镜都能够操作，以将散射的测量辐射聚焦到传感器上，从而所述透镜阵列在传感器上形成包括多个子图像的图像，每个子图像由透镜阵列中相应的透镜形成。由此形成的全光图像包括由来自子图像的像平面信息、(来自子图像的相对位置的)波前变形信息、以及来自子图像的相对强度的光瞳信息。
方法设备计算机程序光刻系统

[发明专利]形貌测量系统-CN201680060628.8有效
发明人： N·潘迪;A·J·登鲍埃夫;H·M·马尔德;W·R·彭格斯;鲍拉斯·安东尼斯·安德里亚斯·特尤尼森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-09-06 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种形貌测量系统包括：辐射源，配置为产生辐射束；空间编码光栅，配置成对辐射束进行图案化并由此提供空间编码辐射束；光学装置，配置为在衬底上的目标部位处形成空间编码光栅的图像；检测光学装置，配置成接收从衬底的目标部位反射的辐射并且在第二光栅处形成光栅图像的图像；以及检测器，配置成接收透过第二光栅的辐射并且产生输出信号。
形貌测量系统

[发明专利]光刻设备对准传感器和方法-CN201680050090.2有效
发明人： S·G·J·马斯杰森;A·J·登博夫;N·潘迪;P·A·J·廷尼曼斯;S·M·怀特;K·S·E·埃克玛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：被构造为保持衬底的衬底台；以及被配置为感测设置到由衬底台保持的衬底上的对准标记的位置的传感器。传感器包括被配置为用辐射束照射对准标记的辐射源、被配置为检测已经与对准标记相互作用的辐射束作为离焦光学图案的检测器、以及数据处理系统。数据处理系统被配置为接收表示离焦光学图案的图像数据，并且处理图像数据以用于确定对准信息，包括向离焦光学图案应用无透镜成像算法。
光刻设备对准传感器方法

[发明专利]使用图像平面检测技术测量关注的参数的方法和设备-CN201980020487.0在审
发明人： N·潘迪;周子理;G·范德祖;A·登博夫;M·G·M·M·范克莱杰;A·E·A·库伦;H·A·J·克拉默;P·C·欣南;M·H·M·范威特;A·蔡亚马斯;王淑锦;B·O·法格金杰·奥尔;A·弗玛 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文描述了检查设备、方法和与之相关联的系统。在非限制性实施例中，检查设备包括光学系统和成像系统。光学系统可被配置成输出入射到包括一个或更多个特征的目标上的照射束，并且当入射到目标上时被偏振以具有第一偏振。成像系统可被配置成获得表示由一个或更多个特征散射的至少照射束的部分的强度数据，其中照射束的部分具有与第一偏振正交的第二偏振；基于强度数据生成表示每个特征的图像的图像数据；并且基于具有第二偏振的照射束的部分的量来确定与特征相关联的关注的参数的测量。
使用图像平面检测技术测量关注参数方法设备