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[发明专利]确定结构特性的方法和量测设备-CN201980036860.1有效
发明人： J·F·德波尔;V·T·滕纳;C·弥赛西;A·J·登鲍埃夫 -专利权人：阿姆斯特丹自由大学基金会;荷兰科学研究机构基金会;阿姆斯特丹大学;ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种用于确定结构的特性的方法和设备。在一种布置中，利用第一照射辐射照射结构以产生第一散射辐射。通过第一散射辐射的到达传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成第一干涉图案。还利用第二照射辐射从不同方向照射该结构。使用第二参考辐射形成第二干涉图案。第一和第二干涉图案用于确定结构的特性。第一和第二参考辐射到传感器上的方位角是不同的。
确定结构特性方法设备

[发明专利]暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法-CN202080087946.X在审
发明人： W·M·J·M·柯恩;A·J·登鲍埃夫;V·T·滕纳;N·潘迪;C·弥赛西;J·F·迪鲍尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-10-21 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G03H1/04 文献下载
摘要：本发明披露一种暗场数字全息显微镜，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的所关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括：照射装置，所述照射装置被配置成至少提供：第一束对，所述第一束对包括第一照射辐射束(1010)和第一参考辐射束(1030)；和第二束对，所述第二束对包括第二照射辐射束(1020)和第二参考辐射束(1040)；和一个或更多个光学元件(1070)，所述一个或更多个光学元件能够操作以捕获由所述结构散射的第一散射辐射且捕获由所述结构散射的第二散射辐射，所述第一散射辐射和所述第二散射辐射分别由所述第一照射束和所述第二照射束而产生。所述第一束对的束是相互相干的，以及所述第二束对的束是相互相干的。所述照射装置被配置成在所述第一束对与所述第二束对之间强加非相干性(ADI)。
暗场数字全息显微镜相关方法