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- [发明专利]使用超临界二氧化碳法从衬底上去除光刻胶及残渣-CN00815082.6无效
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W·H·穆勒;M·A·比伯格;P·E·施林
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东京威力科创股份有限公司
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2000-11-01
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2002-12-11
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H01L21/311
- 一种从衬底上去除光刻胶和残渣的方法,它起始于保持超临界二氧化碳、胺和溶剂与所述衬底接触,使得所述胺和溶剂至少部分溶解光刻胶和残渣。优选地,所述胺是叔胺。优选地,所述溶剂选自DMSO、EC、NMP、乙酰基丙酮、BLO、醋酸、DMAC、PC和它们的混合物。然后,把光刻胶和残渣从衬底附近去除。优选地,该方法继续冲洗步骤,其中,衬底在超临界二氧化碳和冲洗剂中冲洗。优选地,冲洗剂选自水、醇、二者的混合物以及丙酮。在一种供选择的实施方案中,胺和溶剂用含水氟化物代替。
- 使用临界二氧化碳衬底去除光刻残渣
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