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[发明专利]一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统-CN201610064253.4有效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G01D3/036 文献下载
摘要：一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统，该电容式感测系统包括用于测量所述电容式传感器与靶材之间的距离的两个或更多个电容式传感器、用于为所述电容式传感器供电的一个或多个AC电源、以及用于处理来自所述电容式传感器的信号的信号处理电路，其中所述传感器被成对配置，其中所述一个或多个AC电源被配置成以交流电流或电压为一对传感器中的第一传感器供电，该交流电流或电压与供应给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度，且其中所述信号处理电路配置成从该对传感器中的每一传感器接收输出信号，并基于接收到的输出信号产生有关于该对传感器与靶材间的平均距离的测量数值。
一种用于光刻机器集成传感器系统电容式感测

[发明专利]振动隔绝模块和基板处理系统-CN201280043869.3无效
发明人： J.J.M.佩杰斯特;R.M.L.艾伦布鲁克;G.德波尔 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2012-09-10 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及用于光刻设备或检查设备的振动隔绝模块(101)。此模块包括支撑框(102)、中间体(103)、用于容置光刻设备的支撑体(104)。中间体藉由至少一弹簧元件而连接于支撑框，致使中间体为悬吊体。支撑体藉由至少一根摆杆(108)而连接于中间体，致使支撑体为悬吊体。本发明进一步涉及包括此种振动隔绝模块的基板处理系统。
振动隔绝模块处理系统

[发明专利]光刻系统和在该光刻系统中处理基板的方法-CN201180067573.0有效
发明人： G.德波尔;H.J.德琼;V.S.凯珀;E.斯洛特 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明关于一种包括多个光刻系统单元的光刻系统(300)。每一个光刻系统单元都包括：光刻设备(301)，其被排列在真空腔室中，用以图案化基板；装载锁定系统(310)，用以将基板传输至该真空腔室里面和外面；以及出入口，用以达到进入该真空腔室以进行维修的目的。每一个光刻系统单元的装载锁定系统与出入口会被提供在相同侧并且面向该光刻系统某一侧的自由区，明确地说，面向维修区(305)。
光刻系统处理方法

[发明专利]具有差动对的电容式感测系统-CN201080065050.8有效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G01B7/02 文献下载
摘要：一种电容式感测系统，包括两个或更多个电容式传感器（30a、30b）、用于供电给该电容式传感器的一个或多个AC电源（306a、306b）、以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。这些传感器被布置成对，其中一个或多个AC电源被配置成以交流电流（307）或电压供电给一对传感器中的第一传感器，该交流电流或电压与供给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度，且其中一对传感器提供针对单一测量距离数值的测量单元，该信号处理电路从该对传感器中的每一传感器接收输出信号，并产生有关于该对传感器与靶材（9）间的平均距离的测量数值。
具有差动电容式感测系统

[发明专利]曝光方法-CN201080065058.4无效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯坦布林克;J.J.科宁 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用于对系统中的靶材的表面进行曝光的方法，该系统包含一组用于测量距靶材的距离的传感器(30)。该方法包括将靶材箝制到可移动平台(134)、移动靶材至一个或多个传感器被定位于靶材上方的多个位置、接收来自被定位于靶材上方的一个或多个传感器的信号、依据接收自传感器的信号计算一个或多个倾斜度修正数值(Rx、Ry)、依据该一个或多个倾斜度修正数值调整平台的倾斜度、以及对靶材进行曝光。
曝光方法

[发明专利]集成传感器系统-CN201080065060.1无效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用于光刻机器的集成传感器系统，该系统包括用于将一个或多个曝光射束聚焦至靶材上的投射透镜系统(132)、用于承载靶材(9)的可移动平台(134)、用于进行有关投射透镜系统的最后聚焦组件(104)和靶材(9)的表面间的距离的测量的电容式感测系统(300)、以及控制单元(400)。该控制单元(400)用于至少部分地依据来自电容式感测系统的信号控制可移动平台(134)的移动而调整靶材(9)的位置。该电容式感测系统(300)包括多个电容式传感器(30)，每一个电容式传感器(30)均包括薄膜结构。该电容式传感器和投射透镜系统的最后聚焦组件(104)直接安装至共同基座(112)，且该传感器被放置于极为接近投射透镜系统的最后聚焦组件的边缘处。
集成传感器系统

[发明专利]电容式感测系统-CN201080063434.6有效
发明人： G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯坦布林克 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： G01B7/02 文献下载
摘要：一种电容式感测系统，包括具有薄膜结构的传感器(30)，薄膜结构包括传感器，其具有第一绝缘层(34)，和包括在该第一绝缘层(34)的第一表面上形成的感测电极(31)的第一导电膜，以及包括背护电极(35)的第二导电膜。该背护电极可在单个平面上形成并包括在该同一平面上的周边部分，并且被部署在该第一绝缘层(34)的第二表面和第二绝缘层(43)或保护层(38)的第一表面上。该背护电极的周边部分可延伸超过该感测电极(31)，以形成侧护电极，该侧护电极大致上或完全地包围该感测电极。
电容式感测系统

[发明专利]带电粒子微影设备及真空腔室中产生真空的方法-CN201080017873.3无效
发明人： G.德波尔;S.巴尔图森;R.贾格;J.J.M.佩耶斯特;T.F.提彭;J.A.H.范尼夫斯塔特;W.M.维达;A.H.V.范维恩 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-02-17 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： H01J37/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种带电粒子微影设备(100)，其具有用于产生一个或多个带电粒子束(123)的带电粒子源(101)、用于将射束投射于晶圆上的带电粒子投射器(108、109、110)、及用于运载该晶圆(130)的可移动晶圆平台(132)。该带电粒子源、带电粒子投射器和可移动晶圆平台被布置于形成真空环境的共用真空腔室(140)中。该真空腔室另外具有用于将晶圆装载至该腔室中的开口和门。
带电粒子设备空腔产生真空方法

[发明专利]真空腔中产生真空的带电粒子光刻设备及方法-CN201080017872.9有效
发明人： S.巴尔图森;G.德波尔;H.M.马金克;T.F.提彭 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-02-17 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： H01J37/16 文献下载
摘要：本发明提供一种包含用于封闭一内部空间的多个壁板(510)的真空腔(400)，其中该壁板使用多个用于以预定配置对该壁板定位的连接部件(504、524、528)而可卸除地连接以形成腔室。该真空腔另外包含一或多个在该壁板的边缘处提供的密封部件(522)。该壁板经配置，使得因该内部空间形成真空而在该壁板的边缘处形成真空紧密密封。
空腔产生真空带电粒子光刻设备方法

[发明专利]微影机及基板处理的配置-CN201080017870.X无效
发明人： G.德波尔;S.巴尔图森;H.J.德琼 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2010-02-22 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： H01J37/16 文献下载
摘要：一种包括多个带电粒子微影设备的装置，每个带电粒子微影设备均具有真空腔室(400)。该装置进一步包括：共用自动机(305)，用以将晶圆运送到该多个微影设备；以及用于每个带电粒子微影设备的晶圆装载单元(303)，被布置成在每个相应真空腔室(400)的正面。该多个微影设备被布置成行，且微影设备的正面面向过道(310)，该过道用以让共用自动机(305)通过，以便将晶圆运送至每个设备；以及，每个微影设备的背面面向通道廊道(306)，且每个真空腔室的后壁均设置有通道门，用以通往相应微影设备。
微影机处理配置

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