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- [发明专利]设置投射曝光系统的方法、投射曝光方法以及用于微光刻的投射曝光系统-CN202180091123.9在审
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E·施奈德;T·格鲁纳;T·图多罗夫斯基
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卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司
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2021-01-19
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2023-09-05
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G03F7/20
- 在一种设置用于以图案的至少一个图像曝光辐射敏感衬底的投射曝光系统的方法中,该投射曝光系统包括:照明系统(ILL),其被配置为在照明场中生成被引导到图案上的照明辐射(ILR);投射镜头(PO),其包括多个光学元件,该光学元件被配置为用投射辐射将位于照明场中的图案的一部分投射到衬底处的像场上;测量系统(MS),其能够测量投射辐射的至少一个属性,该属性代表分布在像场中的多个间隔开的测量点处的像差水平;以及操作控制系统,其包括至少一个操纵器,该操纵器操作地连接至投射曝光系统的光学元件,以基于由测量系统生成的测量结果来修改投射曝光系统的成像特性。该方法包括:在测量点分布计算(MPDC)中确定测量点分布的步骤,该测量点分布定义了待在测量中使用的测量点的数量和位置,其中测量点分布计算(MPDC)在边界条件下执行,该边界条件至少代表:(i)操作控制系统的操纵能力;(ii)测量系统的测量能力;以及(iii)预定义的用例场景,其定义了代表性用例集,其中每个用例对应于由投射曝光系统在预定义的使用条件集下生成的特定像差图案。
- 设置投射曝光系统方法以及用于微光
- [发明专利]光学系统与操作光学系统的方法-CN202080104310.1在审
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T·格鲁纳;N·巴尔;K·范伯克尔;L·J·A·范博克霍文;M·洛伦兹;T·蒙兹;E·施奈德;H-M·斯蒂潘;B·斯特里夫柯克;A·迪劳夫
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卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司
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2020-08-07
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2023-06-23
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G03F7/20
- 本发明关于光学系统,特别是用于微光刻,且本发明关于用以操作光学系统的方法。根据本发明一方面,光学系统包含:至少一个反射镜(100,500,600),其具有光学有效表面(101,501,601)以及反射镜基板(110,510,610),其中冷却流体能够流动于其中的至少一个冷却通道(115,515,615)配置在反射镜基板中,以消散由于吸收了从光源入射在光学有效表面上的电磁辐射而在反射镜基板中产生的热;以及调整单元(135,535,635),用以根据将反射镜基板中热负载特征化的测量量值或根据在光源的给定功率下在反射镜基板中所预期的估计热负载,来调整冷却流体的温度和/或流速。
- 光学系统操作方法
- [发明专利]用于制造封闭罩的塑料注塑模具和制造封闭罩的方法-CN202180051778.3在审
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J·斯图勒;F·赫尔思;E·施奈德
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Z-工具制造有限责任公司
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2021-07-26
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2023-05-09
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B29C45/44
- 本发明涉及一种用于制造封闭罩(5)的塑料注塑模具(1),所述封闭罩具有罩体(14)和与罩体(14)材料相同地整体地构造的罩顶(15),其中,所述罩顶(15)可设计为相对于所述罩体(14)可运动的罩盖,其中,所述注塑模具(1)分为相对彼此可移动的第一和第二半模(2、3),并且其中,在所述第一半模(2)中构造有注塑喷嘴(4),其中,在所述第二半模(3)中相对于中央的模具芯(8)在径向外部构造有多个滑动颚模具部件(9),所述滑动颚模具部件能够同时沿着所制造的封闭罩(5)的推出方向(r)和垂直于推出方向(r)的方向运动,并且在这些滑动颚模具部件(9)中分别构造有所述罩体(14)的局部注塑轮廓(16),其中,这些局部注塑轮廓(16)共同沿着封闭罩(5)的周向形成所述罩体(14)的由滑动颚模具部件(9)所构成部分的整体注塑轮廓,其中,与所述第二半模(8)配属地设有用于推出所制造的封闭罩(5)的推出装置(48)。为了进一步改进所述的塑料注塑模具,在此建议,在两个或更多个滑动颚模具部件(9)中构成彼此不同的局部注塑轮廓(16),并且所述滑动颚模具部件(9)在沿推出方向(r)推出所述封闭罩(5)之前在沿推出方向(r)前后相继的两个区域(51)处贴靠在所述模具芯(8)上。
- 用于制造封闭塑料注塑模具方法
- [发明专利]反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜-CN202080104190.5在审
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T·格鲁纳;N·巴尔;K·范伯克尔;L·J·A·范博克霍文;M·洛伦兹;T·蒙兹;E·施奈德;H-M·斯蒂潘;B·斯特里夫柯克
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卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司
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2020-08-07
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2023-04-21
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G03F7/20
- 本发明关于反射镜,特别是用于微光刻投射曝光设备。本发明的反射镜具有光学有效表面(101,201,301);反射镜基板(110,210,310,410);反射层系统(120,220,320),其用以反射入射在光学有效表面(101,201,301)上的电磁辐射;至少一个致动器层,其配置为在反射层系统(120,220,320)上传输可调整机械力,由此产生光学有效表面(101,201,301)的局部可变变形;以及至少一个冷却装置,其配置为至少部分地消散由该致动器层所产生的热。
- 反射特别是用于微光投射曝光设备
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