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- [发明专利]光学系统和用于操作光学系统的方法-CN202180088266.4在审
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A·迪劳夫;T·格鲁纳;N·贝尔;T·蒙兹;P·比特纳
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卡尔蔡司SMT有限责任公司
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2021-11-29
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2023-09-29
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G02B7/18
- 本发明涉及一种光学系统和一种用于操作光学系统的方法，特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统。根据本发明的一个方面，一种光学系统包括：至少一个具有光学有效表面(101、201、301、401、501、601)和反射镜基板(110、210、310、410、510、610)的反射镜(100、200、300、400、500、600)；多个温度调节区(131‑136、141‑146、231‑236、241‑246、331‑336、341‑346、431、441‑446、531‑536、541、631、641)，布置在该反射镜基板中；以及温度调节装置(150、250、350、450、550、650)，可以通过该温度调节装置彼此独立地调节存在于每个温度调节区中的温度，所述温度调节区布置在距光学有效表面不同距离处的至少两个平面中，并且所述至少两个平面中的温度调节区被配置为冷却通道，处于可变可调节的冷却流体温度的冷却流体能够彼此独立地流过该冷却通道。
- 光学系统用于操作方法
- [发明专利]光学系统与操作光学系统的方法-CN202080104310.1在审
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T·格鲁纳;N·巴尔;K·范伯克尔;L·J·A·范博克霍文;M·洛伦兹;T·蒙兹;E·施奈德;H-M·斯蒂潘;B·斯特里夫柯克;A·迪劳夫
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卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司
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2020-08-07
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2023-06-23
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G03F7/20
- 本发明关于光学系统，特别是用于微光刻，且本发明关于用以操作光学系统的方法。根据本发明一方面，光学系统包含：至少一个反射镜(100,500,600)，其具有光学有效表面(101,501,601)以及反射镜基板(110,510,610)，其中冷却流体能够流动于其中的至少一个冷却通道(115,515,615)配置在反射镜基板中，以消散由于吸收了从光源入射在光学有效表面上的电磁辐射而在反射镜基板中产生的热；以及调整单元(135,535,635)，用以根据将反射镜基板中热负载特征化的测量量值或根据在光源的给定功率下在反射镜基板中所预期的估计热负载，来调整冷却流体的温度和/或流速。
- 光学系统操作方法
- [发明专利]反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜-CN202080104190.5在审
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T·格鲁纳;N·巴尔;K·范伯克尔;L·J·A·范博克霍文;M·洛伦兹;T·蒙兹;E·施奈德;H-M·斯蒂潘;B·斯特里夫柯克
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卡尔蔡司SMT有限责任公司;ASML荷兰公司
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2020-08-07
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2023-04-21
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G03F7/20
- 本发明关于反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备。本发明的反射镜具有光学有效表面(101,201,301)；反射镜基板(110,210,310,410)；反射层系统(120,220,320)，其用以反射入射在光学有效表面(101,201,301)上的电磁辐射；至少一个致动器层，其配置为在反射层系统(120,220,320)上传输可调整机械力，由此产生光学有效表面(101,201,301)的局部可变变形；以及至少一个冷却装置，其配置为至少部分地消散由该致动器层所产生的热。
- 反射特别是用于微光投射曝光设备
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