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[发明专利]基于半导体应用的语义图像分割-CN202280016576.X在审
发明人： B·布拉尔;R·威灵福德 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-04-04 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G06T7/11 文献下载
摘要：提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含语义分割模型，其经配置以响应于在多个像素中的每一者中表示的内容而将标签指派给图像中的所述多个像素中的每一者。所述图像是由成像子系统产生的样品的图像。所述计算机子系统经配置用于从所述指派标签确定所述样品的信息且无需所述样品的参考图像。
基于半导体应用语义图像分割

[发明专利]重复者缺陷检测-CN201880036421.6有效
发明人： A·马修;E·希夫林;S·森;S·钱德拉塞卡安;高理升;B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-06-04 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：可将来自热扫描的缺陷保存例如在永久存储装置、随机存取存储器或分离数据库上。所述永久存储装置可为基于区块的虚拟检验器虚拟分析器VIVA或本地存储装置。可确定重复者缺陷检测工作且可基于所述重复者缺陷检测工作检验晶片。可分析重复者缺陷且可从所述永久存储装置读取对应于所述重复者缺陷的缺陷记录。可将这些结果回传到高阶缺陷检测控制器。
重复缺陷检测

[发明专利]基于噪声特性而对次关注区域进行聚类-CN202080077271.0有效
发明人：黄波士;李胡成;V·图马科夫;S·帕克;B·布拉尔;E·索尔塔默罕默德 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：在半导体晶片的图像中确定关注区域。基于与所述关注区域相关联的设计文件中的多边形的形状将所述关注区域划分为次关注区域。接着，针对所述次关注区域执行直方图的噪声扫描。基于所述直方图的所述噪声扫描将所述次关注区域聚类成群组。
基于噪声特性关注区域进行

[发明专利]通过跨层图像相减的晶片噪声减少-CN201780068952.9有效
发明人： B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-11-21 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：通过计算多层晶片的跨层差异图像而提供光学检验工具的差异图像中的噪声减少。使用第一晶片层的第一晶片图像及第二晶片层的第二晶片图像。所述第一晶片图像及所述第二晶片图像在所述多层晶片上的相同平面位置处，但它们是不同层及/或在不同工艺步骤之后的图像。计算所述第一晶片图像与所述第二晶片图像之间的第一差异图像以减少晶片噪声。可使用所述第一差异图像来识别缺陷。可使用具有图像数据采集子系统的系统来执行此技术。
通过图像晶片噪声减少

[发明专利]用于选择用于样本检验的缺陷检测方法的系统和方法-CN202080049170.2有效
发明人： B·布拉尔;李胡成;S·S·帕克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-26 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供用于选择用于样本检验的缺陷检测方法的方法及系统。一种系统包含经配置用于基于样本上的多边形的特性将关注区域中的所述多边形区分成初始子群组且确定在由检验子系统的检测器针对所述不同初始子群组中的所述多边形产生的输出中的噪声的特性的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于通过组合具有所述噪声的所述特性的基本上相同值的所述不同初始子群组的任何两者或更多者而确定所述多边形的最终子群组。另外，所述计算机子系统经配置用于选择用于应用到在所述样本或另一样本的检验期间由所述检验子系统的所述检测器产生的所述输出的第一及第二缺陷检测方法。
用于选择样本检验缺陷检测方法系统

[发明专利]用于多模式检验的基于统计学习模式选择的方法及系统-CN202080070822.0有效
发明人： V·盖德;B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-10-08 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于选择用于检验样品的模式的方法及系统。一种方法包含统计预测集合中的数据点是否对应于样品上的缺陷或扰乱点。所述数据点包含针对所述样品上的离散位置从通过检验系统的两个或更多个模式产生的输出确定的属性。已在所述离散位置处使用所述模式中的至少一者检测事件。所述方法还包含确定所述模式的两个或更多个不同组合中的每一者的定量测量，借此确定不同定量测量。所述不同组合中的每一者的所述定量测量是响应于所述组合中的一者检测所述缺陷且最小化所述扰乱点的检测的良好程度。所述方法进一步包含基于经确定定量测量选择用于检验与所述样品的类型相同的样品的所述模式中的一或多者。
用于模式检验基于统计学习选择方法系统

[发明专利]设置样本的检验-CN202180043613.1在审
发明人：陈宏;B·布拉尔;A·塞兹希内尔;S·帕克;G·丛;李晓春 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供用于设置样本的检验的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统，其经配置以获取样本的参考图像且修改所述参考图像以使所述参考图像适合于设计栅格以从而产生黄金栅格图像。所述一或多个计算机子系统还经配置以存储所述黄金栅格图像用于检验所述样本。所述检验包含使从检验子系统的输出产生的所述样本的测试图像与所述黄金栅格图像对准。
设置样本检验

[发明专利]用于光学或其它模式选择的深度生成模型-CN202180043739.9在审
发明人： B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供用于选择用于对样品执行的工艺的工具的模式的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统及由所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含生成对抗网络(GAN)，例如条件GAN(cGAN)。所述计算机子系统经配置以用于修改样品的设计数据的一部分以生成所述设计数据的人为缺陷部分，且通过将所述设计数据的所述部分及所述设计数据的所述人为缺陷部分输入到所述GAN中而产生所述样品的经模拟图像。所述计算机子系统还经配置以用于确定所述经模拟图像的一或多个特性，且基于所述一或多个所确定特性而选择用于对所述样品执行的工艺的工具的模式。
用于光学其它模式选择深度生成模型

[发明专利]针对含样品内及样品间变异的样品使用无监督学习及适应性数据库产生方法的图像对准设置-CN202180039743.8在审
发明人： B·布拉尔;金欢;李晓春 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于确定用于在对样品执行的过程中使用的一或多个对准参数的方法及系统。一种方法包含：确定通过成像系统针对样品上的两对或更多对裸片中的每一者中的对应位置产生的图像之间的类似性的测量；及基于类似性的所述经确定测量执行集群分析以识别最彼此类似的所述图像且将最彼此类似的所述图像的不同子集分别指派到不同裸片集群。所述方法还包含针对所述不同裸片集群中的两者或更多者分开地确定一或多个对准参数。所述一或多个对准参数用于将通过所述成像系统针对所述样品或另一样品产生的图像对准到共同参考。
针对样品变异使用监督学习适应性数据库产生方法图像对准设置

[发明专利]用于增强型缺陷检验灵敏度的以无监督学习为基础的参考选择-CN202080061753.7有效
发明人： B·布拉尔;N·帕特威瑞;S·S·帕克;李晓春 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种光学特性化系统及其使用方法。所述系统包括经配置以与经配置以从样本接收照明且产生图像数据的一或多个检测器通信地耦合的控制器。一或多个处理可经配置以：接收所述样本上的裸片的图像；计算所述图像的所有组合的相异性值；执行集群分析以将所述图像的所述组合分割成两个或更多个集群；使用所述两个或更多个集群中的集群中的所述图像的所述组合中的两者或更多者产生所述集群的参考图像；及通过比较所述集群中的测试图像与所述集群的所述参考图像来检测所述样本上的一或多个缺陷。
用于增强缺陷检验灵敏度监督学习基础参考选择

[发明专利]图样检查的重复缺陷检测-CN202180032420.6在审
发明人：陈宏;K·吴;李晓春;J·A·史密斯;E·希夫林;骆青;M·库克;W·W·司;L·余;B·布拉尔;N·帕特威瑞;N·特洛伊;R·尹宗扎 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-05-04 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
图样检查重复缺陷检测

[发明专利]用于选择设计文件的系统、计算机可读媒体及实施方法-CN202080012743.4有效
发明人： B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-02-06 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供用于选择一或多个设计文件以供在测试图像与设计对准中使用的方法及系统。一种方法包含通过将第一及第二组图像与针对样品产生的测试图像进行比较而识别所述第一及第二组图像中的哪一组图像最佳匹配所述测试图像。所述第一及第二组图像分别包含所述样品上的第一及第二组设计层中的经图案化特征的图像，所述第一与第二组设计层是彼此不同的。所述方法还包含：通过将所述经识别组的图像与设计文件进行比较而为所述样品选择最佳匹配所述经识别组的图像的所述设计文件；及存储所述经选择设计文件的信息以供在一过程中使用，在所述过程中将所述经选择设计文件中的经图案化特征与在所述过程中针对样品产生的测试图像中的经图案化特征对准。
用于选择设计文件系统计算机可读媒体实施方法

[发明专利]用于模拟样本图像的生成对抗网络(GAN)-CN202180012274.0在审
发明人： B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供用于生成样本的模拟图像的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统及由所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含使用训练集训练的生成对抗网络(GAN)，例如条件GAN(cGAN)，所述训练集包含经指定为训练输入的一或多个样本的设计数据的部分及经指定为训练输出的所述一或多个样本的对应图像。所述一或多个计算机子系统经配置以通过将样本的设计数据的部分输入到所述GAN中来生成所述样本的模拟图像。
用于模拟样本图像生成对抗网络 gan

[发明专利]基于图像帧的算法选择器-CN201980073930.0有效
发明人： B·布拉尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-10-25 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：基于针对多个光学模式、检测算法和属性的所关注缺陷和扰乱点事件的工作转储，识别前述内容的最佳组合。可针对在零偏移下检测的全部所述所关注缺陷，比较所述模式中的每一者与所述检测算法中的每一者的组合。可针对所述组合中的每一者中的所述属性中的一者来确定捕获率对扰乱点率。
基于图像算法选择器

[发明专利]半导体晶片缺陷检验系统及半导体晶片图像对准的方法-CN201980065115.X有效
发明人： D·道林;T·辛格;B·布拉尔;S·巴塔查里亚;B·曼蒂普利;李胡成;李晓春;S·S·帕克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种在半导体晶片缺陷检验系统处执行半导体晶片图像对准的方法。在所述方法中，将半导体晶片装载到所述半导体晶片缺陷检验系统中。针对所述半导体晶片执行预检验对准。在执行所述预检验对准之后，实行第一扫描带以产生所述半导体晶片上的第一区的第一图像。确定所述第一图像中的目标结构相对于已知点的偏移。使用所述偏移针对所述第一图像执行缺陷识别。在实行所述第一扫描带且确定所述偏移之后，实行第二扫描带以产生所述半导体晶片上的第二区的第二图像。在实行所述第二扫描带时，使用所述偏移来执行所述半导体晶片的运行时间对准。
半导体晶片缺陷检验系统图像对准方法

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