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[发明专利]基于噪声特性而对次关注区域进行聚类-CN202080077271.0有效
发明人：黄波士;李胡成;V·图马科夫;S·帕克;B·布拉尔;E·索尔塔默罕默德 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：在半导体晶片的图像中确定关注区域。基于与所述关注区域相关联的设计文件中的多边形的形状将所述关注区域划分为次关注区域。接着，针对所述次关注区域执行直方图的噪声扫描。基于所述直方图的所述噪声扫描将所述次关注区域聚类成群组。
基于噪声特性关注区域进行

[发明专利]用于选择用于样本检验的缺陷检测方法的系统和方法-CN202080049170.2有效
发明人： B·布拉尔;李胡成;S·S·帕克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-26 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供用于选择用于样本检验的缺陷检测方法的方法及系统。一种系统包含经配置用于基于样本上的多边形的特性将关注区域中的所述多边形区分成初始子群组且确定在由检验子系统的检测器针对所述不同初始子群组中的所述多边形产生的输出中的噪声的特性的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于通过组合具有所述噪声的所述特性的基本上相同值的所述不同初始子群组的任何两者或更多者而确定所述多边形的最终子群组。另外，所述计算机子系统经配置用于选择用于应用到在所述样本或另一样本的检验期间由所述检验子系统的所述检测器产生的所述输出的第一及第二缺陷检测方法。
用于选择样本检验缺陷检测方法系统

[发明专利]在晶片上检测缺陷的系统、计算机实施方法及可读媒体-CN201980060244.X有效
发明人： J·黄;P·鲁塞尔;李胡成;K·吴 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-09-17 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于在晶片上检测逻辑区域中的缺陷的方法及系统。一种方法包含获取晶片的逻辑区域中的不同类型的基于设计的关注区的信息。所述方法还包含：将所述不同类型的所述基于设计的关注区指定为不同类型的子区域；及针对所述逻辑区域内的局部区，将定位于所述局部区中的所述子区域的两个或更多个例子指派给超区域。另外，所述方法包含针对指派给所述超区域的所述子区域的所述两个或更多个例子的全部产生一个散布图。所述一个散布图经产生具有针对输出的不同分段值，其对应于所述不同类型的所述子区域。所述方法进一步包含基于所述一个散布图检测所述子区域中的缺陷。
晶片检测缺陷系统计算机实施方法可读媒体

[发明专利]半导体晶片缺陷检验系统及半导体晶片图像对准的方法-CN201980065115.X有效
发明人： D·道林;T·辛格;B·布拉尔;S·巴塔查里亚;B·曼蒂普利;李胡成;李晓春;S·S·帕克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种在半导体晶片缺陷检验系统处执行半导体晶片图像对准的方法。在所述方法中，将半导体晶片装载到所述半导体晶片缺陷检验系统中。针对所述半导体晶片执行预检验对准。在执行所述预检验对准之后，实行第一扫描带以产生所述半导体晶片上的第一区的第一图像。确定所述第一图像中的目标结构相对于已知点的偏移。使用所述偏移针对所述第一图像执行缺陷识别。在实行所述第一扫描带且确定所述偏移之后，实行第二扫描带以产生所述半导体晶片上的第二区的第二图像。在实行所述第二扫描带时，使用所述偏移来执行所述半导体晶片的运行时间对准。
半导体晶片缺陷检验系统图像对准方法

[发明专利]控制样本检验的工艺-CN202080069658.1在审
发明人： B·布拉尔;李胡成;S·帕克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供用于控制样本检验的工艺的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统，所述一或多个计算机子系统经配置用于确定针对样本上的关注区域的多个例项产生的差异图像的统计特性，及确定所述统计特性相较于针对一或多个其它样本上的所述关注区域的多个例项产生的差异图像的统计特性的变动。另外，所述一或多个计算机子系统经配置用于基于所述变动确定用于检测所述样本上的所述关注区域中的缺陷的一或多个参数的一或多个改变。
控制样本检验工艺

[发明专利]用于DRAM及3D NAND装置的设计辅助检验-CN202080056478.X在审
发明人：俊青·珍妮·黄;李胡成;S·S·帕克;李晓春 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：运用用于DRAM及3D NAND检验的所公开系统及方法，基于检验工具的输出接收晶片的图像。接收所述晶片上的多个存储器装置的设计的几何测量。基于所述几何测量确定具有更高检验灵敏度的关注区域。
用于 dram nand 装置设计辅助检验

[发明专利]用于多模半导体检验的光学模式选择-CN201980079468.5在审
发明人： B·布拉尔;R·威灵福德;K·格拉马;李胡成;S·帕克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-12-12 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：使用主要光学模式扫描一或多个半导体晶片或其部分以识别缺陷。使用电子显微镜选择并检视多个所述经识别缺陷，包含第一类别的缺陷及第二类别的缺陷。基于此检视，将所述多个缺陷的相应缺陷分类为所述第一类别或所述第二类别的缺陷。使用多个辅助光学模式使所述多个所述经识别缺陷成像。基于使用所述主要光学模式的所述扫描及使用所述多个辅助光学模式的所述成像的结果，选择用于结合所述主要光学模式使用的所述辅助光学模式中的一或多者。使用所述主要光学模式及所述一或多个所选择的辅助光学模式针对缺陷扫描生产半导体晶片。
用于半导体检验光学模式选择

[发明专利]用于重复缺陷检测的方法、计算机可读媒体及系统-CN201980030265.7有效
发明人： B·布拉尔;李胡成 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-05-09 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：第一阈值处的重复缺陷分析识别重复缺陷。所述重复缺陷定位于每一光罩上的相同坐标处。接收所述坐标处的半导体晶片的每一光罩上的图像，且获得多个带正负号差值图像。计算带正负号差值图像的重复缺陷阈值，还计算极性的一致性。将所述阈值应用于所述图像且确定每个重复缺陷保留的缺陷数目。可将辅助重复缺陷阈值应用于干扰过滤。
用于重复缺陷检测方法计算机可读媒体系统

[发明专利]用于高敏感度重复项缺陷检测的系统及方法-CN201780068950.X有效
发明人： B·布拉尔;S·巴塔查里亚;E·希夫林;李胡成;B·默里;A·马修;C·巴哈斯卡尔;高理升 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-11-08 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统包含：(若干)计算机子系统，其包含一或多个图像处理组件，其获取由检验子系统针对晶片产生的图像；主用户接口组件，其将针对所述晶片及所述光罩产生的信息提供到用户且接收来自所述用户的指令；及接口组件，其提供所述一或多个图像处理组件与所述主用户接口之间的接口。不同于当前使用的系统，所述一或多个图像处理组件经配置用于通常将重复项缺陷检测算法应用到由所述一或多个图像处理组件获取的所述图像而执行重复项缺陷检测，且所述重复项缺陷检测算法经配置以使用热阈值来检测所述晶片上的缺陷且识别是重复项缺陷的所述缺陷。
用于敏感度重复缺陷检测系统方法

[实用新型]一种室内空气质量检测及处理智能窗户-CN202020703088.4有效
发明人：肖同亮;黄理想;马小虎;李胡成;付义成 -专利权人：南京工程学院
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： E06B9/40 文献下载
摘要：本实用新型是一种室内空气质量检测及处理智能窗户，窗框内由上至下依次设置有采光玻璃和电控雾化玻璃，采光玻璃顶部边缘设置有与卷帘电机的输出轴传动连接的卷连杆，卷帘电机通过控制卷连杆的转向进而控制采光玻璃卷帘的收起或展开，电控雾化玻璃的顶部边缘设置有挂杆，挂杆与电控雾化玻璃窗帘滑动连接，电控雾化玻璃窗帘用于在展开时遮挡电控雾化玻璃，电控雾化玻璃窗帘在驱动装置的带动下沿挂杆的轴向展开或收起；窗框边缘安装有控制柜，控制柜内安装有空气循环装置，空气循环装置用于实现室内空气的循环过滤或实现室内与室外空气的置换。该种智能窗户够智能控制窗帘的展开和收起状态，还能实现室内外空气置换功能和室内空气自循环功能的切换。
一种室内空气质量检测处理智能窗户

[发明专利]用于界定设计数据的重复结构中的关注区域的系统及方法-CN201780014887.1有效
发明人：俊青（珍妮）·黄;S·科内茨基;李胡成;肯翁·吴;高理升 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-03-28 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明揭示一种方法，其包含：识别具有第一敏感度阈值的第一关注区域的第一集合，所述第一关注区域与设计数据中的重复单元块内的第一受关注设计相关联；识别具有额外敏感度阈值的额外关注区域的额外集合，所述额外关注区域与设计数据中的重复单元块内的额外受关注设计相关联；基于所述第一敏感度阈值识别样本的选定区域的一或多个图像中的第一关注区域的所述第一集合内的一或多个缺陷；及基于所述额外敏感度阈值识别所述样本的所述选定区域的所述一或多个图像中的所述额外关注区域的所述额外集合内的一或多个缺陷。
用于界定设计数据重复结构中的关注区域系统方法

[发明专利]在逻辑及热点检验中使用Z层上下文来改善灵敏度及抑制干扰的系统及方法-CN201780035591.8有效
发明人： P·K·佩拉利;李胡成 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示用于从晶片的缺陷扫描去除干扰数据的系统及方法。处理器接收具有一或多个z层的对应于晶片的设计文件。所述处理器接收所述晶片的临界区域且指示子系统捕获所述晶片的对应图像。接收缺陷位置且对准所述设计文件与所述缺陷位置。使用潜在缺陷位置及所述所对准设计文件的所述一或多个z层来识别干扰数据。所述处理器接着从所述一或多个潜在缺陷位置去除所述所识别干扰数据。
逻辑热点检验使用上下文改善灵敏度抑制干扰系统方法

[发明专利]自动配方稳定性监测及报告-CN201580027915.4有效
发明人： 李胡成;高理升;戈文达拉扬·塔达伊孙达拉姆 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-06-11 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于监测晶片检验配方随时间的稳定性的系统及方法。一种方法包含收集随时间的检验结果。所述检验结果是在不同时间点在晶片上执行所述晶片检验配方时由至少一个晶片检验工具所产生。所述方法还包含通过将在不同时间产生的所述检验结果彼此比较而识别所述检验结果中的异常变化。另外，所述方法包含确定所述异常变化是否可归因于所述晶片、所述晶片检验配方或所述至少一个晶片检验工具的一或多者，由此确定所述晶片检验配方是否随时间稳定。
自动配方稳定性监测报告

[发明专利]在电子束图像中确定缺陷的位置-CN201680046416.4有效
发明人： 李胡成;戈文达拉扬·塔达伊孙达拉姆 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-08-11 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供用于在晶片的电子束图像中确定缺陷的位置的方法及系统。一种方法包含：基于缺陷在差分图像中的第一位置而相对于成像于测试图像中的图案确定所述缺陷的第二位置。所述方法还包含：针对所述缺陷在电子束图像中相对于所述图案确定所述缺陷的第三位置；及确定所述第一与第三位置之间的关联。另外，所述方法包含：基于另一缺陷在差分图像中的第一位置及所述经确定关联而在电子束图像中确定另一缺陷的位置。
电子束图像差分图像第三位置第一位置图案确定关联测试图像第二位置晶片成像

[发明专利]使用结构性信息的缺陷检测-CN201580055325.2有效
发明人：骆青;吴肯翁;李胡成;高理升;尤金·希夫林;阿方索·孙 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-10-13 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： G05B19/401 文献下载
摘要：本发明提供用于基于结构性信息来检测样本上的缺陷的系统及方法。一种系统包含一或多个计算机子系统，所述子系统经配置用于基于样本上的阵列区中的结构的特性来将由所述阵列区中的检验子系统的检测器产生的输出分离成所述输出的至少第一片段与第二片段，使得不同片段中的所述输出已被产生于所述阵列区中的不同位置，其中形成具有所述特性的不同值的所述结构。所述计算机子系统还经配置用于通过基于所述输出是处于所述第一片段中还是处于所述第二片段中而将一或多个缺陷检测方法应用于所述输出以检测所述样本上的缺陷。
使用结构性信息缺陷检测

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